二手 KLA / TENCOR 219e #293651164 待售

ID: 293651164
Mask inspection system.
KLA/TENCOR 219E是一種最先進的掩模和晶圓檢測設備,旨在為半導體封裝的所有方面提供業界領先的高精度成像能力。它具有巨大的、業界領先的圖像傳感器陣列,分辨率高達1600萬像素。這使系統能夠捕獲極其詳細的圖像,這些圖像是檢查掩模和晶片上的精確特征所必需的。除了廣泛的成像功能外,KLA 219E還提供了廣泛的高級圖像處理算法,以幫助確保最高的結果準確性。它可以檢測和測試晶片上的關鍵缺陷,確保高達9 σ或更高的產率。它還附帶各種其他功能,如Bokeh、ANNe和LDS,為高效制造提供了一系列全面的數據洞察。TENCOR 219 E設計用於各種晶片,從常規晶片到先進的3維(3D)結構。它配備了可配置的視場和掃描大小,因此單個單元可以容納同一晶圓上的不同幾何形狀。機器還附帶了針對各種重要測試任務的定制解決方案,如粒子檢查和圖像註釋。KLA 219 E設計易於使用和維護。它配備了一個帶電纜的鍵盤和鼠標,以及一個用戶友好的界面,提供簡單的控制工具。它還具有自動設置和校準功能,可節省時間並最大程度地降低維護成本。總體而言,KLA/TENCOR 219 E掩模和晶圓檢測資產是半導體封裝檢測的極其強大可靠的工具。它提供業界領先的圖像功能,以及大量的高級圖像處理算法和可定制的測試參數。TENCOR 219E具有易於使用的界面和自動化設置,是半導體檢測和生產的理想選擇。
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