二手 KLA / TENCOR 2350 #9270104 待售

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ID: 9270104
晶圓大小: 8"-12"
優質的: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12" Dual open EFEM, 12" GEM SECS and HSMS Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B) Xenon lamp: 150 W Wavelength illumination: 370~720 nm Wavelength band: Visible, UV, I-line Pixel size: 160~250 nm User interface: Monitor Wafer display Industrial PC (IPC) Image computer (IMCs) (44) IMC Boards Does not include MM2S board Inspection station: Granite suspension: Power Blower stage Pneumatics optics plate Air filter Wafer handler (EFEM): Dual open, 8"-12" Dual SMIF, 8" Dual FIMS, 8"-12" Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) Keyboard, mouse and joystick Solenoid board LP2 Cover Robot controller UI and IS connecting cable RGB Cable RS232 Cable Joystick cable EMO Cable (4) IMACS to UI Cables (2) AZP FFA Cables MIB Cable Digital camera cable 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350是一種掩模和晶片檢測設備,設計用於識別用於生產先進集成電路的半導體晶片和掩模中的缺陷。該系統利用照明和查看功能、機器視覺技術以及圖像和數據處理的組合來檢測和分析可能難以檢測的缺陷。KLA 2350配備了包括光源、500萬像素CMOS圖像傳感器、成像光學器件以及專門的反射和透射光學器件在內的先進光學元件陣列。該單元的光源在可見和近紅外(NIR)波長中使用6個窄帶光譜切片,為不透明和半透明圖樣的成像提供高動態範圍和對比度。此外,機器的成像光學器件還提供了諸如磁場曲率和失真、銳度、光照和聚焦等校正功能,以提高刀具性能。TENCOR 2350的CMOS圖像傳感器每秒可掃描多達10個晶圓,分辨率高達500 nm,確保高質量的圖像捕獲。該資產還提供特定於波長的缺陷檢測,利用不同的照明和觀察功能來識別具有特定波長光的缺陷。為了便於數據分析,2350具有強大的圖像和數據處理模型。該設備能夠測量、分析和分類掩模和晶片缺陷。它采用高級算法進行設計,以確保最高質量的圖像和缺陷識別,即使在大批量生產環境中也是如此。此外,該系統還配備了自動顯微鏡和圖像分析軟件等綜合檢查工具,可實現極其精確和自動化的缺陷識別。KLA/TENCOR 2350是一種高度通用可靠的掩模和晶圓檢測裝置。憑借先進的光學技術和強大的圖像處理和分析能力,它已成為成功生產先進半導體IC的重要工具。
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