二手 KLA / TENCOR 2350 #9270188 待售
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已售出
ID: 9270188
晶圓大小: 8"-12"
優質的: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual open EFEM, 8"
GEM SECS and HSMS
Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B)
Xenon lamp: 150 W
Wavelength illumination: 370~720 nm
Wavelength band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160~250 nm
User interface:
Monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
(48) IMC Boards
Does not include MM2S Board
Inspection station:
Granite suspension: Power
Cooling stage
Pneumatics optics plate
Air filter
Wafer handler (EFEM):
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Lower monitor
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 5 V
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board with valve
AF LED 1 Board
LP2 Cover
Y1 Flex board
(2) FVPA Boards
Robot controller
Fan Filter Unit (FFU)
UI and IS connecting cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS to UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350是一款高度先進的掩模和晶圓檢測設備，專為半導體器件制造而設計。它結合了成像、可視化和自動表征缺陷的幾種技術和技術，以便快速定位和識別半導體器件表面最小的汙染物顆粒和損壞。KLA 2350光學系統使用雙光源相幹照明和高動態範圍成像，以減少手動檢查的需要，創造表面和特征的優化視覺效果。它還能夠自動適應各種晶圓基板，允許它捕獲高分辨率圖像，無論方向和大小。此外，它的幹涉顯微鏡成像單元能夠4X放大高度詳細的數據捕獲和分析。KLA專有的Multi-Command Vector Processor （MCVP）用於實時評估捕獲的圖像並搜索本地化的缺陷,然後由機器進行分段和識別。這種直接局部缺陷檢測的原理減小了整體數據大小，使得相對於傳統的基於SEM/EDS的工具，可以更快、更準確地進行分析。它還與大量的樣本類型兼容，使得它進一步適用於各種各樣的應用。此外,TENCOR汙染區域映射（CAM）功能與TENCOR 2350分析功能完全集成,用於檢測和勘測晶圓上的總缺陷,為用戶提供有意義的信息,減少檢查時間和成本。該資產也符合FIPS標準,因此,根據政府標準,所有數據都受到保護,免受未經授權的訪問。總體而言,2350是一種智能、高性能的表面材料檢測模型,旨在以高效的方式檢測和檢查最小的缺陷。該設備結合了強大的光學和高級分析技術，提供了生產和研究任務所需的準確性和數據。
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