二手 KLA / TENCOR 2365 #293606937 待售

KLA/TENCOR 2365掩模和晶圓檢測設備是一個以半導體晶圓、掩模和器件檢測為主的前沿成像網絡。該系統設計獨特，在缺陷檢測、三維地形檢測、臨界尺寸測量等具有挑戰性的OEM應用方面表現出色。KLA 2365以納米分辨率提供高質量的成像,最大活動表面尺寸為8 「x 10」（20 cm x 25 cm）。它還具有晶圓和平板缺陷分析功能，包括圖像蝕刻和實時審查檢查。該單元利用大視野、動態範圍和高級軟件來有效定位和識別缺陷。獲得專利的自動缺陷分析技術使得識別晶片上的隨機和結構元素變得容易。通過易於使用的圖形用戶界面,操作員可以快速瀏覽計算機並有效地管理工作流。革命性的Real-Time Review （RTR）模式以高達每小時1280個晶圓的速度顯示在線操作期間的所有缺陷圖像。利用強大的圖像壓縮功能,該工具可減少數據存儲需求,同時提供高效的環境控制。TENCOR 2365利用了最新的散射法和亮場成像技術。200瓦ORION（模塊化散射測量）光源提供最高分辨率的成像和表征能力。照明資產也可以定制，以滿足特定應用與UV，IR，和脈沖激光光源。先進的2365晶片檢測網提供了快速、準確的表面缺陷檢測，確保晶片無缺陷、質量最高。智能模型針對每個樣本優化分辨率、對比度和焦點,確保正確檢測到每個缺陷。使用KLA/TENCOR 2365,操作員可以輕松排除問題並快速進行修改。該設備被證明是要求苛刻的應用的理想選擇，因為它可以快速準確地檢測到宏觀缺陷、芯片邊緣、顆粒、劃痕和其他不同類型的缺陷。這就是為什麼全世界的半導體芯片制造商都依賴KLA 2365 Mask和晶圓檢測系統。