二手 KLA / TENCOR 2367 #9029088 待售
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已售出
ID: 9029088
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Brightfield inspection system, 12"
Install Type: Stand-Alone
Cassette interface:
(2) Asyst 300mm FIMS LPs
(2) AdvanTag SW CID, G4
E84 for OHT w/PIO for G4
E40/E94 HW support
Pre-aligner
Main unit:
Brooks robot
BB visible pixels (um): 0.62, 0.39, 0.25
BB/I-Line/G-Line UV pixels (um): 0.20, 0.16, 0.12
Edge contrast
Array & random modes
High mag review optics
High resolution review CCD
Anti-blooming TDI
IS Station
Status lamp (R, Y, G, B, audible)
1600 MPSS image computer
Operating system: Win 2000
Application SW ver: 10.4.507.0.5
GEM/SECS & HSMS
Power line conditioner
Remote power EPO
Facility requirements:
CDA
Vacuum (house)
Power (main): 208 VAC, 16 A, 3 phase, 5-wire (WYE), freq 50/60Hz
2004 vintage.
KLA/TENCOR 2367面膜和晶圓檢測設備是一個生產計量平臺，旨在支持各種缺陷檢測、叠加和CD計量應用。該系統包括具有反射和透射光等級的亮場照明器、數碼相機和強大的納米級光學對準能力。此單元的設計可容納2到12英寸的掩碼和晶片大小的所有尺寸的掩碼和晶片,其吞吐量範圍可達50微米,最大輸入分辨率。KLA 2367 Mask and Wafer Inspection Machine通過高級設計和性能特性的結合,滿足業界對過程控制和總缺陷檢測的苛刻需求。該工具提供了非常快速的自動機器對準功能,並能夠使用具有反射和透射光等級的亮場照明器捕獲高分辨率的全場圖像。與仿真結果相比，采用晶圓CD和接觸掩碼數據作為輸入，采用模式分類、算法缺陷審查和缺陷分類進行自動缺陷審查。TENCOR 2367的先進光學器件最大限度地減少了CD的變化，並在生產過程中從芯片到芯片的叠加測量。此外,資產的對齊/對焦功能能夠精確放置掩碼或晶片,以及在每次拍攝中對齊。集成模式識別軟件以晶片CD和接觸掩碼數據作為輸入，實現了快速掩碼晶片缺陷分類和算法缺陷審查。2367模型還使用一系列軟件應用程序和工具,用於圖像采集和集成、樣本/過程分析、數據管理和報告。每個應用程序都提供了收集、分析和傳達每個晶圓計量項目目標的集成能力。該軟件旨在滿足客戶對便攜性、靈活性和可擴展性的要求。KLA/TENCOR 2367被設計為一種用於先進技術節點的可靠且經濟高效的計量解決方案。該設備提供智能操作,無需手動幹預,並提供自動實時反饋和診斷,以確保最佳的測量性能。集成系統是為快速設置和無縫過渡從一個晶圓到下一個，使其容易產生高質量和穩健的檢驗結果。
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