二手 KLA / TENCOR 239 / 219 #76226 待售

KLA/TENCOR 239/219是一種用於半導體晶片光學檢測的掩模和晶片檢測設備。該系統具有先進的、高分辨率的數字成像單元和一系列強大的圖像處理算法。該軟件包包括用於簡化缺陷檢測的自定義軟件應用程序,包括自動缺陷審查（ADR）和2D形態。ADR工具提供四種缺陷類型的檢測，反應時間快，並通過多路徑方法準確定位缺陷。2D形態學算法使用神經模糊計算技術檢測細微的模式變化。機器的成像陣列具有512 x 1024的大像素大小，具有175 x 250 mm的視野，捕捉高質量的圖像。通過集成交叉光柵濾波器來提高圖像的亮度和對比度。還有一種先進的單色顏色分級模式,用於改進假顏色拒絕和邊緣檢測。KLA 239/219軟件包構建在直觀的Windows操作工具上,允許易於使用和快速適應。它旨在與現有的面罩檢查工具集成，例如KLA自己的Contura Inspection Suite。軟件包的主要特點包括模式類型識別、缺陷審查自動化、子像素掩碼對準、激光掃描、叠加分析等等。該資產的設計已針對廣泛的光刻元件，包括接觸器、屏障層和鈍化材料的高性能進行了優化。先進的算法和強大的處理器體系結構提供了快速的操作,使其成為一個經濟高效的解決方案,可以滿足當今的高制造需求。TENCOR 239/219非常適合半導體行業的晶圓和掩模檢查,在半導體行業中,識別缺陷和高分辨率、高精度成像對於確保產品質量至關重要。憑借其緊湊的設計和直觀、用戶友好的界面，該模型是任何半導體制造工廠的絕佳選擇。