二手 KLA / TENCOR 2551 #293616226 待售

KLA/TENCOR 2551掩模和晶圓檢測設備是一種自動光學檢測系統，旨在識別各種半導體掩模和晶圓中的缺陷。該單元利用光學、運動機器和高級模式識別算法的組合來檢測和識別掩碼和晶圓背光中的缺陷。KLA 2551可以為全系列的掩模和晶圓生產技術提供缺陷檢測支持，從簡單的鋁到更復雜的多金屬、多層電阻和電容器結構。TENCOR 2551檢測工具由三個主要組成部分組成：投影資產、XYZ運動模型和光源。投影設備由物鏡、模片投影鏡頭和場投影鏡頭三個鏡頭組成。物鏡將影像從模具投射到晶片上，而投影鏡頭則用來將影像從掩模投射到晶片上。反過來，場投影透鏡被用來從整個晶片投射更大的圖像到芯片上。掃描儀可以以用戶定義的分辨率掃描晶片的全場圖像，並將其與標準蒙版模式進行比較。這樣，2551就能快速準確地檢測和識別缺陷。此外,它還可用於快速準確地檢測由不正確的薄膜厚度、彎曲、錯誤配準和其他問題引起的模式相關錯誤。運動系統由兩軸線性級和兩個旋轉級組成。這使投影單元能夠有效和準確地將自身重新定位到所需位置，以進行測量和檢查。可以選擇光源來匹配不同材料的信號範圍和信號強度。KLA/TENCOR 2551配備了利用圖像處理和人工智能（AI）算法檢測和識別缺陷的高級軟件套件。這包括按大小、形狀、圖案和方向識別和分類缺陷的算法；用於將缺陷與其參考點進行比較；通過模式識別識別缺陷；並確定它們的真實性質和位置。此外，機器能夠快速準確地為發現的每一個缺陷生成一個統計報告。綜上所述,KLA 2551掩模和晶片檢測工具是一種高度先進的自動化檢測資產,旨在快速準確地檢測和識別各種半導體掩模和晶片中的缺陷。它具有光學元件、高級運動和光源以及AI驅動的軟件算法的組合，以確保最準確的結果。