二手 KLA / TENCOR 259 #9396111 待售

KLA/TENCOR 259是一種自動化的自動掩模和晶片檢測設備，設計用於檢查半導體晶片和掩模以識別缺陷。它使用先進的高分辨率光學器件，使用戶能夠檢測到晶片和掩模上最小的缺陷或不規則性。KLA 259允許以任何放大倍數檢查晶片和掩碼,其變焦範圍可達令人印象深刻的50倍至250倍,並采用經過驗證的高級掃描自動多點傳感（MPS）技術。MPS使用創新的激光束自動對焦來測量表面的不規則性，提供無與倫比的精度和可重復性。TENCOR 259還具有自動化的AutoAlignment系統,允許用戶快速、精確地將晶片或掩碼對齊到檢查區域。該單元還為用戶提供高度自動化的缺陷管理機器,以管理和存儲缺陷信息,並最大程度地減少手動幹預。259設計了一個強大的平臺,以確保結果的一致性和準確性,並具有防止用戶錯誤或未對齊的幾個功能。它包括一個專利的自校準掩模檢查工具（MIT）,用於監視掩模對齊方式的變化,並根據響應立即調整光學器件。麻省理工學院還檢查微小缺陷到亞微米大小的口罩，並記憶多種口罩類型，以最小的人工幹預提供自動口罩檢查。該工具還具有對圖像數據進行實時分析和解釋的高級圖像處理算法，提供了快速準確的缺陷識別。KLA/TENCOR 259還設計用於可靠、低維護的操作,包括一個全面、用戶友好的用戶界面,用於控制、監視和配置資產。此界面可在PC、Mac、Linux和SGI等眾多平臺上使用,為用戶提供靈活的操作。此外,該模型是可擴展的,可以定制以滿足特定的需求。總之，KLA 259是為半導體應用設計的先進的自動掩模和晶圓檢測設備，提供前所未有的準確性和可重復性。該系統利用先進的光學、MPS和AutoAlignment系統,提供對檢查過程的全面控制,並具有能夠準確檢測微缺陷的MIT。此外,用戶界面提供跨多個平臺的直觀操作,並提供完全的靈活性和可擴展性。