二手 KLA / TENCOR 2608 #9386377 待售
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KLA/TENCOR 2608 Mask&Wafer Inspection Equipment是一個自動化晶片檢驗計量平臺，適用於200mm和300 mm晶片的高級工藝控制和線路監控。該系統設計用於精確測量光掩模、半導體晶片和平板顯示器上的關鍵特征。其廣闊的視野、納米分辨率和高通量能力使其成為晶圓和掩模光刻控制的理想解決方案。KLA 2608包括敏感的彩色CCD線掃描成像傳感器、高性能光學器件和高分辨率晶圓級。CCD線掃描成像傳感器具有小於8µm的像素大小,允許在掩模和晶圓表面上顯示高分辨率的缺陷圖像。此外,TENCOR 2608還提供了4 x 3英寸的大視野,為樣品提供了廣闊的概況,能夠精確識別和定位缺陷。2608能夠在掩模和晶片表面上執行各種測量，如薄膜厚度、折射率、地形、叠加驗證、線寬、線寬和空間測量、捕獲斷線、處理暗線檢測和驗證寬線。此外,它還提供專門的算法,用於自動檢測和審查缺陷,提高生產效率和準確性。KLA/TENCOR 2608配備高速晶圓傳輸單元，一次最多可裝卸四個晶圓，允許高通量能力。KLA 2608還附帶了一個集成的流程管理軟件,用於自動化作業編程、遠程訪問、集中式數據管理和審核。KLA 2608Mask&Wafer檢測機為半導體晶片和光掩模的檢驗和計量提供了更高的準確性、生產率和重復性。其強大的功能，包括先進的CCD線掃描成像傳感器、高性能光學器件、4 x 3英寸視場、納米分辨率和高速晶圓傳輸能力，適用於高精度晶圓和掩模工藝控制。
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