二手 KLA / TENCOR 2810 #9178483 待售
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單擊可縮放
ID: 9178483
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Inspection system, 12"
UI and PC:
(2) Monitors
Joystick
Keyboard
System Control Computer (SCC)
IMC Rack (RMPU): CRT 0 and 1
Optics and stage:
TDI0: (16) Daughter boards
Chuck, 12"
AMAC Stage controller
Stage shipping brackets
AF Plate
XTC Board cables
High mag camera
Pixel size: 35 nm / 50 nm
Load port and robot:
ASYST ISO Dual load ports
Pre-aligner
FEC Handler control computer
Line conditioner / Exhaust boxes
Includes:
EFEM
RMPU
Monitor and table
Power supply
Missing parts:
Track ball
(6) Hard Disk Drives
Middle blade center power supply
AMM of Middle and bottom blade center
TDI1 Assy
GALIL 1 and 2 boards
(6) Stage AMP boards
AMAC Cover
(4) Stage air regulators
YASKAWA Robot
2008 vintage.
KLA/TENCOR 2810 Mask&Wafer Inspection設備是一種高速、高分辨率的自動光學晶片和mask inspection系統，旨在檢測半導體晶片、標線、平板、MEMS等類型薄膜材料中的缺陷。該單元利用五軸運動、二維/三維成像以及廣泛的分析和檢驗能力，提供質量控制、過程控制和質量保證。該檢測機建立在一個多軸平臺上，沿所有操作軸提供高分辨率圖像采集。刀具利用5軸運動能力和可變梁角度選擇來覆蓋檢查目標的所有部分。可變光束角度選擇可確保檢查晶片或掩模的所有部分以查找缺陷。資產由KLA IR接近對齊模型提供動力。該設備利用專有的軟件算法將獲取的圖像精確對齊正在檢查的晶圓/掩模的目標幾何形狀。這使得系統能夠檢測到非常小的缺陷和陰影，特別是在晶圓/掩碼的邊緣和角落附近。KLA 2810利用二維（2D）和三維（3D）成像進行卓越缺陷檢測。該單元配備了先進的3D成像能力和特征識別算法,以獲得更高精度的地形圖像,從而能夠更有效地檢測缺陷並更快地進行分析。該機配備了廣泛的缺陷檢測能力，包括顆粒分析、缺陷表征分析、缺陷審查分類等。這樣可以確保對檢測到的任何缺陷進行準確的分析和分類,從而可以采取適當的操作。最後,TENCOR 2810具有高速數據傳輸功能,能夠快速評估和向客戶報告。該工具還具有全自動資產,可減少操作員疲勞並提高結果的準確性。總體而言,2810 Mask&Wafer Inspection模型為半導體晶圓、標線、平板、MEMS和薄膜材料檢測提供了全面、經濟高效的解決方案。該設備提供卓越的靈敏度、高速成像功能、自動化功能和全面的缺陷檢測功能,使其成為快速準確地檢查晶片和掩模的強大工具。
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