二手 KLA / TENCOR 3905 #9310915 待售
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ID: 9310915
晶圓大小: 12"
優質的: 2016
Plasma patterned wafer inspection system, 12"
(2) Load ports
PHEONIX Handler
Standard cables: 5 m
Ion shower
PHOENIX TF 3.0 Kit
Dual loadport info pad kit
DLA Pinpoint: 100 nm
FDC
NTP (SNTP) Time synchronization
2016 vintage.
KLA/TENCOR 3905 Mask&Wafer Inspection Equipment是一種前沿工具,用於檢測和調試半導體制造過程中平面基板上的任何材料缺陷。該系統由幾個組成部分組成,能夠測量、識別、分類和修復缺陷。該單元利用各種技術和算法來確保高精度和高性能。機器的主要部分是基於衍射的光學成像工具,它能夠在檢查過程中同時可視化基板內的多層。該資產采用基於波長的多反射方法實現多層缺陷檢測。它還包括一個圖樣照明對比模型(PICON),利用邊緣檢測和暗場技術來提高缺陷定位能力。除此以外,設備還包括用於數據處理、特征檢測、分類、排序和報告的軟件模塊。KLA 3905 Mask&Wafer Inspection System集成了一個全光譜成像單元,該單元包含多個光學組件,如光源、檢測器和光學濾鏡,以更好地識別和檢測缺陷。本機采用創新的自適應亮場照明技術,確保大面積檢查的最大性能。它還具有將每個缺陷分類為眾多類別之一以增強缺陷分類和修復的功能。該工具集成了一類新的實時成像技術,以提高基板檢測的速度。這包括利用先進的深度神經網絡(DNN)重建單個缺陷特征的深度缺陷重建。DNN能夠通過組合成像數據生成缺陷的3D表示。這種實時成像技術使缺陷識別和分類能夠更快地完成-有助於節省時間和成本。TENCOR 3905 Mask&Wafer Inspection Asset還包括幾種自動對焦和變焦光學。它支持多種分辨率,允許用戶更好地區分和分析單個缺陷。使用適當的放大倍率,模型可以識別許多缺陷。設備還包括一個用戶友好的交互式網絡界面,允許用戶實時監控操作並在需要時進行調整。3905 Mask&Wafer Inspection System已被證明是半導體制造的高效、經濟高效的工具。它可靠可靠,可提供一致的結果,提高電子產品的整體質量和性能。憑借這一單元帶來的巨大潛力,未來在增強半導體制造工藝方面顯得光明。
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