二手 KLA / TENCOR 45 #38072 待售

KLA/TENCOR 45面膜和晶圓檢驗設備設計用於晶圓的生產和研發過程。該系統能夠以高達每像素1微米的分辨率同時檢測高達KLA 45晶片。該單元具有一個5軸級,可以將其編程為在晶圓上移動,從而實現全面覆蓋,而無需額外的級。該機配備了包括先進的RGB、紅外和紫外線（UV）照明以及同軸幹涉工具在內的多種圖像捕獲和處理技術。RGB照明用於提供高動態範圍成像，而紅外和紫外線照明則允許資產檢查肉眼看不見的波長。同軸幹涉模型允許用戶捕獲晶圓表面的三維圖像。檢查設備由運行在Windows PC上的圖形用戶界面（GUI）控制。這樣,用戶就可以輕松瀏覽系統、顯示和分析圖像,並導出結果以供進一步查看。該裝置能夠檢測各種缺陷，包括顆粒、劃痕、環繞、短路和開路、橋接和形狀缺陷。此外,該機器通過提供自動模具產量估計以及用於叠加和小體積分配的空間數據分析,提供有價值的過程反饋。該工具高度可配置,允許用戶設置和自定義自己的檢查參數和配置文件。這允許用戶為其特定應用程序優化資產。該模型還支持多種文件格式,使用戶可以靈活地使用最新的第三方軟件工具查看和分析其數據。綜上所述，TENCOR 45 Mask&Wafer檢測設備為生產和研究晶片的檢測和分析提供了一個強大而靈活的平臺。該系統具有廣泛的功能,從圖像捕獲和分析到缺陷檢測和反饋。憑借其易於使用的GUI和廣泛的文件格式,該單元為用戶提供了高度的靈活性和對晶圓檢查過程的控制。