二手 KLA / TENCOR 7200 #293662762 待售

KLA / TENCOR 7200
ID: 293662762
晶圓大小: 8"
Wafer inspection system, 8".
KLA/TENCOR 7200是一種掩模和晶片檢測設備,設計用於對掩模和晶片進行高級光學檢測。該系統能夠進行各種精密測量以進行過程中或最終階段晶片檢查,並且能夠檢查各種材料和技術,包括光刻、抗蝕劑和與設計有關的缺陷。KLA 7200的先進光學器件提供了適合批判性審查和分析的高質量圖像。TENCOR 7200采用了先進的基於圖像的光學檢測裝置,配有四百萬像素彩色linescan/framescan混合相機。該檢測機結合了可見和近紅外成像,以高分辨率檢測表面微缺陷。此外,所有圖像都受到一系列可調節參數的影響,包括動態範圍、亮度、增益和對比度,以確保最高的圖像質量和缺陷檢測功能。該工具的圖像分析技術旨在識別和分析與光刻、抵抗和設計相關的各種缺陷。它的專有軟件套件允許簡單的編程和實時反饋,使資產非常靈活和強大。此外,其最先進的自動晶片處理模型確保了可重復的結果,而其自動缺陷分類功能為快速有效的缺陷分析提供了框架。7200還提供了一系列確保準確性和效率的先進功能,包括自動對焦調節、鏡頭失真補償、模式識別和自動缺陷識別。其先進的光學器件使設備能夠在均勻和非均勻的照明環境中運行。此外,它還與掃描電子顯微鏡(SEM)和掃描白光全向幹涉儀(SWLI)等計量系統直接兼容,以便進一步分析。此外,系統還可以安裝在各種小型軟件包中,使其經濟、易於配置和便於攜帶。它與一系列監視器兼容,其用戶友好的界面使操作員能夠快速、輕松地更改設置和查看數據。綜上所述,KLA/TENCOR 7200是一種先進的掩模和晶片檢驗裝置,設計用於各種精密測量,用於過程中或最終階段的晶片檢驗。它提供了一系列高級功能,如動態範圍、亮度、增益、對比度調整和自動聚焦調整,並且能夠檢測各種光刻、抵抗和與設計相關的錯誤。利用先進的光學器件和自動晶片處理機,該刀具能夠提供高精度的可重復結果。最後,它靈活的設計使資產能夠輕松適應一系列環境和應用程序。
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