二手 KLA / TENCOR Archer 10 XT #9258184 待售

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ID: 9258184
優質的: 2001
Overlay inspection system FOUP, 12" Install type: Stand alone Run daily pm test: PZT P High voltage PZT Z gain PZT Z feedback Halogen light source PDA gain, X, Y axis Wafer surface focus and analysis patent LINNIK camera uniformity AMS camera uniformity Check shutter response time Fringes ON to OFF mean time Fringes OFF to ON mean time GEM/SECS Line conditioner, 60 Hz Power requirements: 208/230 V, 3-Phase / 1-Phase, 50/60 Hz.
KLA/TENCOR Archer 10 XT是一種用於半導體制造的掩模和晶圓檢測設備。它有助於快速準確地檢測和識別光掩模和晶片中的缺陷。KLA ARCHER10XT配備了自動缺陷審查系統,對可疑特征進行全面分析,使用戶能夠快速、輕松地調查和解決光掩碼和晶片中的潛在缺陷。此外,該設備具有檢測小缺陷的高靈敏度,其分辨率範圍從0.7微米到12微米不等,具體取決於應用程序。TENCOR ARCHER 10XT使用20X激光器和快速光學器件快速掃描設備的整個表面,不需要任何物理樣品移動。該機器設計用於處理多種設備類型,包括MEMS/MOEMS、晶圓和光掩模。其成像能力也適用於先進結構,如FinFET、Fin場效應晶體管、HBLED、高亮度發光二極管。除了成像能力外,KLA/TENCOR ARCHER 10XT還具有一系列精密的軟件功能,以提高檢查過程的速度和準確性。該工具可配置為根據預設條件或用戶指定的其他方式識別和分類所有潛在缺陷。高級缺陷聚類、專用缺陷狀態機、合成缺陷生成等功能為高級數據分析提供了詳細的智能。此外,ARCHER10XT能夠創建具有可配置的照明、對比度和顏色值的缺陷圖像,並且具有強大的後處理資產以及自動缺陷大小和缺陷內存比較軟件。這使用戶能夠在檢查前後輕松地可視化和比較設備中的任何變化。該模型還支持廣泛的接口,使其能夠輕松地與現有的生產流程集成。此外,高級Web和報告功能使用戶能夠遠程訪問和分析數據。總體而言,ARCHER 10XT是一種先進的掩模和晶圓檢測設備,提供快速、高效的缺陷檢測和分析,精確度更高。其功能豐富的軟件、映像功能和連接選項使其成為任何半導體制造環境的重要補充。
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