二手 KLA / TENCOR Archer 10 #9205450 待售
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已售出
ID: 9205450
Overlay inspection system, 8"
Does not have KLASS computer
Halogen light source:
Halogen lamp (HLS)
P/N: 127-483105-000 (X)
PDA Gain: X, Y Axis
Wafer surface focus and analysis patened
LINNIK Camera uniformity
AMS Camera uniformity
GEM/SECS
Fringes:
ON to OFF mean time
OFF to ON mean time
Line conditioner: 60 Hz
Power: 208/230 V, 3 Phase/1 Phase 50/60 Hz
Noise test:
AMS Camera noise level: 0.68 GL
Light map: 30 Min
50 BP (LINNIK)
12K BP (AMS 12K µm FOV)
PDA:
PDA Gain: 2527 GL
PDA X Axis centering current signal: 653
PDA Y Axis centering current signal: 648
System:
Check shutter response time
Fringes ON to OFF mean time: 65.3 msec 20<x<80
Fringes OFF to ON mean time: 44.5 msec 20<y<80
Check translation vector:
Co-ordinate:
x: 1848.9 µm
Y: 61496.6 µm
Z: 707.2 µm
2004 vintage.
KLA/TENCOR Archer 10是一種前沿掩模和晶片檢測設備，用於檢測和測量光掩模、晶片和其他平臺不可知基板上的缺陷。該系統采用先進的發射成像發光技術，利用亮場和暗場圖像檢測和分析高分辨率缺陷。它提供了快速、高度準確和自動化的缺陷審查,為用戶提供了無與倫比的吞吐量和性能。KLA Archer 10單元設計為在一系列應用程序和過程中有效,可同時處理平面和曲面。它可以檢測光刻、蝕刻、沈積、沈積模式和介電損傷造成的缺陷。這樣可以更快、更準確地檢測和分類缺陷,幫助客戶降低與缺陷相關的成本。高分辨率成像、自動缺陷審查和全面缺陷文檔的結合,使TENCOR ARCHER10成為最苛刻的工業環境的強大工具。它可以輕松地與其他設備（如缺陷控制軟件解決方案）集成,以實現準確、實時的數據分析。TENCOR Archer 10機器能夠通過亮場和暗場成像快速準確地識別缺陷。這樣可以實現可靠、可重復的結果和快速的缺陷分析。其先進的多模具成像確保了準確性和速度。該工具的用戶友好軟件使其易於操作,其高級功能確保了最大精度。ARCHER 10的自動化套件提供了簡單的設置和靈活的數據分析，其集成的3D樣本掃描儀和檢查引擎使晶圓和基板的高通量處理成為可能。KLA ARCHER10還提供了驚人的詳細缺陷圖像。其軟件可以詳細分析和顯示缺陷，允許用戶放大和縮小以評估缺陷大小和形狀。它還有一個基於過濾器的缺陷識別工具，可以過濾出錯誤的缺陷，允許用戶確保他們看到準確的結果。此外,該資產還提供了全面的缺陷控制.缺陷報告和缺陷分析以及實時SPC等功能使用戶能夠快速識別、分類和監控缺陷趨勢。總體而言，KLA的Archer 10是一種先進的高速掩模和晶圓檢測模型。KLA/TENCOR憑借其直觀的軟件、多模具成像、自動缺陷審查和全面的缺陷控制,為工業環境提供了無與倫比的吞吐量和性能ARCHER10。
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