二手 KLA / TENCOR Archer 200 #293800299 待售

KLA/TENCOR Archer 200是一種下一代晶圓和掩模檢驗工具，設計用於半導體制造的高級計量檢驗。它配備了專有的「掃描電子光學」和專有的「全場光掩模對準」技術，為關鍵過程控制和屈服優化提供無與倫比的成像能力。KLA Archer 200設備采用亞微米分辨率電子/離子/光學對比度成像和高級計量相結合的方法，檢查晶圓和掩蔽超出規格的缺陷，如粒子汙染、光刻誤差和光掩模對準誤差。它旨在提供高通量、高分辨率成像和檢查掩模和晶片缺陷。該系統的電子/離子光學功能允許精確成像高放大倍數高達70,000倍的不合格缺陷。這種成像分辨率對於精確的顆粒汙染和顆粒缺陷分析（PCD/PDCA）應用以及工藝控制和垂直熱點分析至關重要。集成到TENCOR Archer 200中的高級計量功能可以檢查光掩碼和晶圓上的圖案化和非圖案化特征。它可以檢測到大小約為0.01µm至0.1µm的缺陷，包括那些太小而無法用傳統光學技術檢測到的缺陷。對於光掩模檢查，Archer 200包含了業界最先進的全場光掩模對準技術。這項專利技術可確保在整個視場上精確測量對齊方式,消除縫線/定位錯誤造成的錯誤。該機組還能同時進行吞吐量和模模檢驗，減少周期時間，提供更高的產量。總體而言，KLA/TENCOR Archer 200是一款先進的面膜和晶圓檢測機，設計符合最嚴格的行業標準和產量要求。其業界領先的功能和高級掃描功能可提供無與倫比的成像分辨率,並提供優化功能,這在高級工藝控制和光刻應用中尤為重要。