二手 KLA / TENCOR Archer 300 #293760734 待售

KLA / TENCOR Archer 300
ID: 293760734
Overlay measurement systems.
KLA/TENCOR Archer 300是一種掩模和晶圓檢測設備,設計用於對先進半導體器件的光刻工藝性能進行精確分析。該系統提供全面的2D或3D成像功能,以及增強的成像功能,以檢測邊緣位置變化、子分辨率特征和關鍵材料-膠片交互。KLA Archer 300單元是一個硬件平臺,可以結合高速激光圖樣成像、自動光學檢查、掩模檢查和膠片檢查,分析集成電路。TENCOR Archer 300利用AccuMetrix™和MultiRes™技術,提供先進的邊緣和驗證技術,將高分辨率圖像與AccuMetric模式匹配軟件相結合,輕松檢測復雜模式中的缺陷。憑借增強的聚焦深度和獲得專利的成像技術,Archer 300能夠比傳統的可視化系統更準確、更快地檢測和識別缺陷。這臺最先進的機器提高了臨界尺寸測量能力,優化了工藝控制,實現了優越的產量控制。KLA/TENCOR Archer 300具有像素分辨率高達20nm、高度分辨率高達10nm的3D圖像容量,並在一天內掃描多達178個晶圓,從而提高了樣品吞吐量。KLA Archer 300還能夠同時支持多達128個晶圓,提供高速數據吞吐量。TENCOR Archer 300還配備了包括MultiColor™技術在內的先進制圖和膠片檢測技術,同時檢測多個關鍵計量特征。它還包括絕對Overlay™工具,用於測量叠加性能並演示多層叠加性能的一致性。此外,該工具還具有集成的微掩碼檢查功能,可自動分析掩模特征以消除錯誤或缺陷。Archer 300的高級資產設計還包括功能強大的數據采集、分析和具有報告功能的通信軟件包,使用戶能夠控制、分析和驗證流程參數。全面的分析、報告和消息傳遞功能使用戶有信心主動幹預以提高流程性能。KLA/TENCOR Archer 300是一種先進、可靠、高性能的模型,可最大限度地提高準確性、吞吐量和數據分析,幫助用戶實現其光刻工藝控制目標。這種一流的掩模和晶圓檢測解決方案使用戶能夠實現最大的工藝穩定性和設備制造產量。
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