二手 KLA / TENCOR Archer AIM+ #293603929 待售
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KLA/TENCOR Archer AIM+是一款市場領先的掩模和晶圓檢測設備,可幫助半導體制造商提高工藝產量並降低成本。它可以準確檢測各種掩模和晶圓測試類型中最微小的缺陷,並使工藝工程師能夠快速對影響產量的缺陷做出反應。該系統將創新的光學和成像算法與先進的基於物理的模式識別相結合。KLA Archer AIM+上的相機是一種雙軸選擇性區域監視器，可以同時從晶圓和掩模組件中精確獲取數據。它能夠以亞微米分辨率和準確度捕獲高達4,000 x 4,000像素的圖像。為了進一步增強圖像捕獲，該單元采用智能參數優化機，在較短的周期內調整光學器件以獲得最佳結果。TENCOR Archer AIM+利用先進的模式識別技術，考慮了缺陷形狀、大小和間距等變量來表征缺陷。它還使用基於物理的模擬器來精確測量撞擊模式檢查的光學參數。這些參數包括分辨率、聚焦和照明。此外，該工具還采用高斯濾波器、形態學濾波器和有源輪廓算法等改進缺陷檢測的先進圖像濾波技術。Archer AIM+針對大批量生產過程進行了優化,並提供了集成的工廠監控。可以對這些數據進行自定義和遠程訪問,從而對更廣泛的缺陷提供卓越的過程控制。此外，資產利用先進的缺陷識別算法提供準確的結果，同時考慮到缺陷隨時間變化。KLA/TENCOR Archer AIM+部署在全球一百多個站點,非常適合廣泛的掩模制造過程和測試,包括但不限於EUV掩模、光學光掩模、抗蝕劑圖像和所有雙陣列掩模。總體而言,KLA Archer AIM+通過提供精確、詳細、高通量的缺陷檢測,幫助半導體制造商在廣泛的掩模和晶圓檢測需求中提高產量並降低成本。
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