二手 KLA / TENCOR Archer AIM+ #9251129 待售

KLA/TENCOR Archer AIM+是一種革命性的掩模和晶片檢測設備，設計用於提供高精度的表面成像和光掩模、標線和半導體晶片的三維檢測。該系統采用掃描電子顯微鏡，提供了更好的反向散射對比度、優異的低kV成像、動態對焦控制和優異的分辨率。KLA Archer AIM+是一個自動化的單元,提供快速的檢查時間和嚴密的過程控制-由於其獨特的設計和高級算法的使用,該機器能夠以一致的精度測量和分析快速移動的缺陷。TENCOR Archer AIM+采用先進的汽車級框架和晶體管級缺陷測量技術，在光學和SEM系統上自動保持1 µm ±的對準精度，大大簡化了檢測過程。該工具結合了100 kV的自動存儲能量探測器，通過識別電子缺陷產生的獨特散射和X射線信號，準確識別和測量電子缺陷。它的高速晶圓映射功能允許實時監控晶圓產量，為工藝工程師提供晶圓狀況的全貌，使他們能夠直接應對不一致的產量問題。Archer AIM+是一種集成且用途廣泛的掩模和晶圓檢驗資產，適用於多種應用，從前端半導體器件制造到高端光學器件。模型強大的光學器件幾乎可以檢查任何特征大小（即使是那些低於衍射限制），而大的樣品級可以很容易地容納許多類型的樣品。該設備還提供二維FEOL/BEOL覆蓋範圍掃描,足以檢測模具級缺陷,並且系統的復雜特征分析功能使用戶能夠準確識別各種缺陷類型。總體而言,KLA/TENCOR Archer AIM+是一款功能強大、用戶友好且用途廣泛的成像和檢查解決方案,專門為滿足半導體、標線和光掩模制造商的需求而設計。該單元的內置自動化和高速掃描儀使其易於設置和操作，而直觀的用戶界面則確保用戶能夠從機器中獲得最大收益。該工具還提供了樣品質量的詳細信息，能夠快速識別和測量缺陷，而不會減慢工藝速度。KLA Archer AIM+以其卓越的性能、精確度和直觀的操作，是掩模和晶圓檢測的完美解決方案。