二手 KLA / TENCOR AWUS 3110 #9236712 待售

KLA/TENCOR AWUS 3110 Mask&Wafer Inspection設備是一種可靠、功能強大的全場檢測系統,旨在提高產量、提高成本效益,並為關鍵過程控制應用提供快速、精確的缺陷分析。該單元使用先進的高分辨率光學器件、基於層的光學參數圖樣測量以及增強的信號處理，以提供高檢測靈敏度和改進的數據分析能力。這意味著用戶可以獲得具有更高準確性和對比度的缺陷站點高分辨率圖像以立即識別缺陷,以及設備層的晶瑩剔透圖像以改進模式識別。KLA AWUS 3110 Mask&Wafer Inspection Machine具有直觀的用戶界面,能夠在整個工具中進行簡單的導航,並具有用於檢查不同類型的晶片和Mask的多種選項,包括全場、多級和微觀檢查。它具有精確且高度可重復的自動聚焦功能,能夠通過實時配置文件快速進行聚焦測量,可用於過程優化。它包括一個先進的缺陷檢測算法，它拒絕錯誤缺陷調用，減少檢查錯誤失敗和生產報廢。資產的廣泛測量功能有助於檢測可能導致收益率下降的細微缺陷。增強的圖像分析算法和自動缺陷分類模型為解決問題和過程控制提供了快速而確鑿的數據分析。該設備有一個獲得專利的激光掃描覆蓋層，用於掩模和晶片檢查，以確保整個過程的數據準確性和一致性。TENCOR AWUS 3110 Mask&Wafer Inspection System除了具有強大而精確的性能外,還設計了最大的可靠性,具有快速的吞吐量和較高的穩定性。該單元可幫助用戶縮短周期時間、提高產量並加快上市速度。它能夠處理各種晶片、異物和缺陷類型，並得到訓練有素、經驗豐富的技術支持人員的支持。