二手 KLA / TENCOR Candela CS20 #293772319 待售
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ID: 293772319
晶圓大小: 6"
優質的: 2006
Surface measurement system, 6"
Illumination source: 8mW
Operator interface: Tracball and keyboard standard
Substrate thickness: 350 µm-1100 µm
Substrate material: Any clear / Opaque polished surface
Defect sensitivity: 0.08 µm
Scratches: 100 µm
Stain: 20 µm
Opaque substrates
EPI Layer
Transparent film coatings: SIC, GaN, Sapphire
Parameters: Ra / Rq / Wa / Wq
Cassette handling: Single puck with up to 200m
Operating environment specifications:
Voltage supply: < ±10%
Environment: Class 1000 / Better recommended
Air: CDA 95-110 psi, 2 CFM
Equipment: Pollution degree 2
Power supply: 8A
Computing system:
Hard drive: 200 gb
RAM: 2 gb
Ethernet: Network card
Operating system: Microsoft windows XP
2006 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20是一種尖端的掩模和晶圓檢測設備,是半導體制造過程中必不可少的工具。該系統旨在提供高分辨率成像和分析能力,用於檢測缺陷並確保用於生產集成電路的掩模和晶片的質量。KLA CANDELA CS-20的核心是其先進的光學技術,它使該單元能夠以極高的清晰度和精確度捕獲極詳細的掩模和晶片圖像。該機器結合了亮場和暗場照明技術,揭示了這些關鍵元件表面可能存在的缺陷和其他缺陷。TENCOR CANDELA CS 20的高分辨率成像功能允許檢測尺寸小至幾納米的缺陷,從而確保在制造過程中發現並解決最微小的缺陷。Candela CS20的一個關鍵特點是能夠對掩模和晶片進行快速和自動化的檢查,允許在短時間內對大量組件進行高通量分析。該工具配備了先進的圖像處理算法,能夠快速準確地識別缺陷和異常,幫助制造商保持高水平的質量控制,確保產品的可靠性和一致性。除了成像功能外,CANDELA CS 20還提供了一系列分析工具和功能,使用戶能夠對蒙版和晶片上的缺陷和其他特征進行詳細分析。資產可以生成曲面的3D表示,從而可以對缺陷進行深入描述,並提供有關其形態和分布的寶貴見解。用戶還可以對缺陷數據進行統計分析,幫助確定可能表明制造過程中潛在問題的趨勢和模式。TENCOR Candela CS20設計為用戶友好且易於操作,具有直觀的界面,允許用戶快速設置和執行檢查。模型可以配置為執行廣泛的檢查任務,從常規的質量控制檢查到對特定特征或缺陷進行更深入的分析。用戶可以定制檢查參數和標準以適應自己的特定要求,確保設備滿足其制造操作的獨特需求。總體而言,CANDELA CS-20是一個最先進的掩模和晶圓檢驗系統,為半導體制造商提供無與倫比的成像和分析能力。KLA/TENCOR CANDELA憑借其先進的光學技術、高分辨率成像能力和先進的分析工具,為檢測缺陷和確保集成電路生產中使用的掩模和晶片的質量和可靠性提供了強大的解決方案CS-20。
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