二手 KLA / TENCOR Candela CS20 #9389552 待售
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已售出
ID: 9389552
優質的: 2012
Surface measurement system, 2"- 8"
Thickness: 350 µm to 1,350 µm
Defect sensitivity: 0.08 µm Diameter
PSL Sphere equivalent: ≥ 95% Capture rate
Surface topography: >2Å Ra sensitivity
Parameters: Ra, Rq, Wa, Wq
Film thickness uniformity (Single layer): 5Å <Thermal oxide < 1000Å
Depth of focus: Maximum ±15 µm under bow
Repeatability: CV ≤ 5.0 %
Edge exclusion:
Imaging (No exclusion)
Defect analysis, varies with wafer size (Nominal: 2"= 1.5mm, 8"= 5mm)
Defect types:
Particles
Scratches
Stains
Pits
Bumps
Scratches: 100 µm long, 0.1 μm wide, 50Å deep
Pits: 20 µm Diameter, 50Å deep
Stains: 20 µm Diameter, 10Å thick
Illumination source:
50 mW Laser
405 nm Wavelength
R-Θ Coordinates
Coordinate precision: 80th percentile ≤150 µm
Coordinate accuracy: 80th percentile ≤150 µm
Spatial resolution: Minimum ≥ 10m spacing at outer edge of 8"
Single channel particle measurements
Robotic wafer handler, 2"- 8"
Operator interface: Trackball and keyboard
LCD Monitor, 19"
2012 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20是一種先進的自動掩模和晶圓檢測設備,旨在為半導體制造商提供突破性的分辨率和重復性。該系統利用藍光LED和專有成像光學器件在檢查晶片和掩模到5納米分辨率時達到無與倫比的清晰度。KLA CANDELA CS-20配備了幾個先進的功能,如集成的空氣軸承掃描級、脈沖光束象限照明和自動缺陷分類,這些功能共同產生高對比度圖像,以便盡可能進行最徹底和準確的檢查。光學單元提供用於檢測表面缺陷如顆粒、汙染和針孔的表面和橫截面圖像數據。在線自動缺陷分類機還可以根據嚴重程度識別不同的缺陷類型和分類。這不僅減少了從業人員的失誤,而且保持了檢查結果之間的高度一致性。TENCOR CANDELA CS 20還采用了先進的模式匹配算法來識別潛在缺陷,以及自動缺陷聚類分析來識別多芯片晶片上可重復的缺陷。結果以易於導航的圖形格式顯示,並且可以將x軸和y軸中的圖像移動到目標問題區域。該工具還允許將圖像從橫向、空中和橫截面角度進行目標和隔離。此外,從資產中收集的數據使用戶能夠驗證過程步驟的準確性,如廢止和模式。數據可以存儲和存儲在集中庫中進行檢索,因此非常適合長期缺陷分析和過程跟蹤。該庫還可用於比較捕獲的圖像和所需的結果以進行模式匹配。CANDELA CS-20是晶圓和掩模檢驗的革命性模型,提供了最可靠和可重復的結果。通過將專有光學器件與集成的空氣承載級、脈沖光束照明和自動缺陷分類相結合,設備確保用戶在當今要求最苛刻的先進金屬硬質掩模和晶片檢查之前保持幾步之遙。
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