二手 KLA / TENCOR CRS 1010 #51182 待售

KLA/TENCOR CRS 1010是一種用於半導體制造的掩模和晶片檢測設備，用於識別光掩模和晶片基板中的潛在計量誤差和光學缺陷。系統使用具有先進光學和高清數字處理能力的高分辨率亮場/暗場成像單元，檢查每個掩模/晶片是否有缺陷。KLA CRS 1010能夠同時檢查多達24個掩模板或晶片,提供更快的吞吐量和更高的吞吐量,並具有高精度和重復性。機器的成像工具由兩個探測器，一個亮場和暗場探測器組成。該光場探測器用於識別粒子缺陷，而暗場探測器則用於檢測光學缺陷。成像資產以各種放大倍數運行,使用戶能夠檢查低至0.2µm和更小的功能。模型的自動缺陷分類算法識別和分類粒子，納米結構和位錯，與缺陷自動聚焦和精確測量每一個缺陷。TENCOR CRS 1010配備了各種先進功能，以增強檢測能力，驅動更好的過程控制。它具有先進的過濾器選擇功能,能夠精確識別缺陷。用戶可以自定義每個應用程序的過濾器設置,並可以指定自己的顏色參數以精確識別缺陷。軟件還允許用戶定義自己的閾值並自定義缺陷排序。此外，設備還包括批量檢測，允許用戶同時檢測多個基板。CRS 1010系統的設計考慮到可靠性和易用性。它利用安全、閉環的機器人工作負載處理和基板定心,確保精確的掩模/晶圓定位,並降低樣品損壞的風險。此外，該單元還包含一個用於樣品運輸的空氣級，為檢查提供了一個清潔、無塵的環境。通過直觀的用戶界面,用戶可以快速、輕松地對計算機進行編程,從而實現快速、準確的設置、執行和分析。總之，KLA/TENCOR CRS 1010是一種先進的檢測工具，設計用於精確、精確的掩模和晶圓檢測。其高分辨率成像和自動化缺陷分類功能使用戶能夠快速輕松地識別掩模和基板表面的缺陷。其直觀的用戶界面、快速的吞吐量和可靠的性能使其成為理想的掩模/晶圓檢測資產,確保了更高的產量和更好的過程控制。