二手 KLA / TENCOR CRS 1010S #293735887 待售

KLA/TENCOR CRS 1010S Mask&Wafer Inspection Equipment是一種高度先進的技術,用於檢查Mask和Wafer的質量。它利用先進檢測系統的微陣列，設計成以極高的速度和分辨率運行。該系統能夠檢測0.13 µm （13 nm）至4 µm （4000 nm）範圍內的芯片。KLA CRS 1010S提供了廣泛的功能,例如自動光學檢查、缺陷分析、高級測量工具、粒子識別、故障分析和數據存儲。TENCOR CRS 1010S配備了一系列先進的光學元件,使其能夠以不同的放大倍率拍攝圖像,包括最高可觀的40X。還可用於檢測表面缺陷、粒子檢測、進行故障分析。其先進的光學技術使其可以在0.13 µm （13 nm）至4 µm （4000 nm）的範圍內觀察掩模或晶片的表面。它還可以掃描0.05 µm（50 nm）至4 µm（4000 nm）範圍內的物體。CRS 1010S使用多種流程檢查芯片。這些過程包括表面檢查、缺陷分析、電氣故障隔離、灰塵檢查、CCD檢查以及一系列專門的物理計量操作。該單位使用先進的成像系統和創新的圖像分析軟件來執行這些任務。然後將從這些操作中收集的數據用於評估芯片的性能。KLA/TENCOR CRS 1010S具有以六種不同方式檢測缺陷的能力。這些方法包括設計用於檢測表面缺陷和顆粒的光學機器、能夠識別微觀顆粒和缺陷的電子顯微鏡工具、用於檢測表面缺陷和納米顆粒的納米缺陷資產以及用於識別不同類型顆粒的粒子識別模型。該設備還可用於執行一系列故障分析。KLA CRS 1010S由功能強大的微處理器提供動力,該微處理器旨在滿足本應用程序的高速和分辨率要求。它配備了高速內存、多個端口和多個總線,使其適合支持集成傳感器、多路復用光學器件和高級數據采集功能。它還有一個先進的軟件包，設計用於快速的任務處理和分析。TENCOR CRS 1010S Mask&Wafer Inspection System是任何半導體鑄造或制造過程中必不可少的工具。它不僅能夠快速、準確和可靠地檢測缺陷,而且還有助於降低成本和提高產品質量,同時縮短上市時間。CRS 1010S具有廣泛的檢測能力，是各行業理想的掩模和晶圓檢測單元。