二手 KLA / TENCOR CRS 3100 #9207492 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9207492
優質的: 2002
Review station
Power supply: 1 Phase, 24 A, 220 VAC, 60 Hz
Maximum ampere: 10000
Maximum load: 12
2002 vintage.
KLA/TENCOR CRS 3100 Mask&Wafer Inspection Equipment提供了一個高性能的解決方案,用於檢查和分析半導體晶片的高通量生產線。這種自動檢查系統利用高靈敏度成像技術,以極高的精度和清晰度識別晶圓表面上的微缺陷。此外,KLA CRS 3100單元還允許進行復雜的模內審查和分析,以檢測隱藏在晶圓盤內的孤立微缺陷。TENCOR CRS 3100機的核心是提供晶圓盤高度靈敏全反射成像的專用光學組件,以及以順序捕獲模式捕捉晶圓表面多幅圖像的CCD相機。CRS 3100工具在可以檢查的晶片類型上也具有靈活性,因為它可以以同樣高的精度和精確度同時支持slicon和砷化銨晶片磁盤。本產品還包括分辨率為1.5微米的先進6軸萬向節定位資產,允許晶片在光學級高度精確對準。KLA/TENCOR CRS 3100型號還能夠通過光學故障檢測(OFD)檢測晶圓盤,以識別晶圓頂部表面的缺陷。該OFD模塊利用獨特的先進傳感技術來優化和提高缺陷檢測靈敏度,甚至檢測微小缺陷。此外,該設備還采用自動FE-SEM采樣系統,利用電子顯微鏡技術對晶片表面受損層進行電化學蝕刻,進一步進行缺陷分析。最後,設計了KLA CRS 3100單元,以最大限度地提高晶圓盤檢測過程的吞吐量。它配備了先進的用戶界面,方便設置和輸入檢驗參數,提供全面的、自定義定義的檢驗配方。此外,該機還提供了非常低的停機時間,允許用戶快速高效地調整檢查參數,並對其進行優化,以達到最大精度和速度。憑借這些創新的特點和先進的規格,TENCOR CRS 3100 Mask&Wafer Inspection Tool被定位為先進半導體晶圓檢測的頂級解決方案之一。
還沒有評論