二手 KLA / TENCOR eDR-5200 #9161799 待售

KLA/TENCOR eDR-5200是為滿足最嚴格的要求而建造的下一代自動掩模和晶圓檢測設備。它提供了前所未有的性能以及高速和卓越的精確度。該系統的主要特點包括大視野、高效成像路徑和高度先進的光束掃描單元。KLA eDR-5200具有高達9000 x 9000微米的大圖像視場（FOV）。這種擴展的FOV使得晶圓和掩模檢查能夠以最少的時間和精力覆蓋大量區域。結合內置的光學、成像技術和先進的照明，這臺機器能夠產生質量優越的圖像。此外,該工具還具有流線型成像路徑,可提供最佳的圖像清晰度和質量。利用圖像傳感器和分析技術,資產能夠檢測復雜圖樣和形狀的缺陷,例如,即使是小劃痕、汙染物、突起和其他基板不規則。此外，該模型還包括一個高度先進的光束掃描設備，該設備是為滿足所檢查的掩模和晶片的具體要求而量身定制的。TENCOR eDR-5200為快速可靠的性能而設計，其光束掃描系統能夠在30分鐘內掃描整個4英寸晶圓。EDR-5200是檢查口罩和晶片的先進工具。它有一個大的FOV，一個流線型的成像路徑，以及一個精密的光束掃描單元，所有這些都使它能夠執行最復雜的檢查任務，以令人難以置信的速度和準確性。隨著半導體制造設備的不斷發展，KLA/TENCOR eDR-5200仍將是一種可靠而有力的掩模和晶圓檢測工具。