二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #293755074 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是一種用於高精度分析光掩模的掩模和晶圓檢測設備，測量的特征小至0.08微米。該系統能夠同時檢查標線和晶片，並利用先進的光學技術，如散射法和光學顯微鏡，探測和識別粒子----甚至是尺寸小於一微米的粒子。基於光纖的單元能夠生成極其詳細的蒙版圖像,即使在較小的放大倍數下也是如此。此外，它還可以生成關鍵模式的高分辨率散射測量，如溝槽、通氣孔和間距。該機器還能夠對加工後的晶片進行缺陷檢查，幫助用戶識別和量化表面和深度缺陷。KLA eDR-5210還能夠分析不同類型的材料，從石英到矽，對大的和細間距的掩模都能精確執行4倍的標線缺陷檢測。該工具包括高級軟件,可快速高效地檢查和測量大型數據集,並便於自動進行缺陷分析。該資產具有高速掃描鏡、精密過程控制、光譜儀光學模型和可靠的10kHz激光設備等幾個關鍵特點。這些組件共同使機器能夠產生準確的圖像，以比常規方法更高的分辨率測量缺陷，並快速識別和診斷潛在的錯誤。總體而言，TENCOR EDR 5210是一個功能強大、高性能的掩模和晶圓檢測系統，非常適合各種半導體生產應用。通過將先進的光學技術與強大的軟件相結合，機器能夠準確地檢測和報告最小的缺陷，使其成為高效無誤制造必不可少的工具。