二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #9112888 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是一種掩模和晶片檢測設備，設計用於檢測光掩模和晶片的缺陷和異常。該系統由三個主要組成部分組成：eDR-5000掃描儀、eDR-5400晶片檢測階段和先進的K3成像單元。eDR-5000掃描儀是機器的心臟，提供捕捉每一個缺陷所需的高分辨率成像。它利用高精度光學和高度敏感的相機來捕捉正負光掩模上缺陷的全焦平面圖像。掃描儀的模塊化設計易於修改,以適應各種可用的掩模尺寸和類型。eDR-5400晶片檢查階段是一個自動化工具，允許掃描儀同時處理多個晶片，一次最多24個。它旨在識別晶片的大小、類型和方向,以便於晶片加載。此外,它的高吞吐量允許自動捕獲每個晶片上的圖像,從而確保陣列化晶片和無圖案化晶片的完全覆蓋。最後，K3成像資產是分析和識別晶片缺陷的模型的組成部分。這種先進的成像設備能夠快速準確地處理大型數據集,以檢測各種類型的缺陷,包括粒子、空隙、線緣和線寬變化、缺失特征以及其他差異。它還具有區分相似特征的能力，以減少誤認的可能性。KLA eDR-5210系統旨在提供高分辨率成像和快速分析光掩模和晶圓缺陷。它的模塊化設計和自動化階段使設備能夠一次快速處理多達24個晶圓。該機先進的成像工具能夠準確、快速地檢測各類缺陷，確保可靠的效果，提高生產效率。