二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #9278890 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是一種用於檢查先進半導體器件在生產過程中移動的掩模和晶圓檢測設備。該系統提供多用途的檢查功能,並結合先進的成像和分析技術,以確保正確測量設備的特性、缺陷和其他特性。該單元有一個雙軸晶圓級，可以適應大多數行業尺寸要求的均勻晶圓地形。它還擁有0.55 µm M2.5 0.55 µm像素大小的4x4英寸×視場。該機采用高精度缺陷定位（HADL）技術，這是一種高分辨率、高精度成像技術，可以在360度視場範圍內檢測小於0.3 µm的缺陷。該工具還包括一個智能掃描模式算法（ISPA），以提高均勻性。ISPA旨在根據過程變量和材料組成、批處理過程參數和規範設置自動檢測缺陷並強制執行特定的缺陷限制。此外,該資產還提供專有的智能表面分析（ISA）工具,包括獨特的粒子識別（UPI）技術,用於檢測和表征粒子、線寬和空隙。該模型采用了最新的成像和照明技術，包括基於LED的3D照明、基於LED的多平面照明、用於無搜索缺陷檢測的可變斑點大小（VSS）模式以及用於改進邊緣對比度的激光反射法。它還提供了一個功能強大的16位圖像處理器，實時數字圖像處理，快速計算缺陷和粒子信息。最後，KLA eDR-5210提供了三個軟件包的選擇：KLA Desktop Explorer、AOI Express軟件和AOI Integrated軟件。這些軟件包提供實時數據分析、自定義報告生成、分析和監視、晶圓和模具映射以及粒子和缺陷跟蹤等功能。此外,設備還提供高級數據導出功能,使客戶能夠將數據導出到各種外部測量和分析工具。TENCOR EDR 5210是一種先進、通用的掩模和晶片檢測系統,提供業界領先的圖像和分析功能。憑借其最先進的照明、成像和分析技術，客戶可以相信其檢驗結果可靠準確。該單元為各種先進的半導體器件和集成電路提供了提高數據準確性和全面缺陷檢測和分析的好處。