二手 KLA / TENCOR eDR-5210 #9397337 待售

KLA/TENCOR eDR-5210是為半導體制造業設計的最先進的掩模和晶圓檢測設備。該系統結合了光學檢查和電子束（e-bame）檢查能力，為各種圖樣和非圖樣層提供了高度準確和可靠的缺陷檢測。KLA eDR-5210非常適合陣列化和非圖案化的掩模檢查和審查。自動掩模和晶片檢查裝置具有內置的高精度CCD攝像頭和MAP軟件，使其能夠快速檢測晶片表面的細微缺陷，並捕獲掩模圖像上的細小圖案。該機的曝光視場高達6英寸x 6英寸，可達到的最大分辨率為16 μ m。TENCOR EDR 5210融合了最先進的成像技術，使其能夠檢測和分析包括線寬收縮、線寬過度生長、線緣粗糙度、突起、坑、坑、橋短褲、開路、短褲等多種缺陷。該刀具的缺陷靈敏度為0.4 μ m，即使在最具挑戰性的納米級器件設計中也能拾取缺陷。此外，資產能夠在各種暴露水平上進行分析，包括暗場、亮場、斜場和光傳輸。該模型還集成了復雜的模式識別功能，如可編程的視覺模式識別、基於特征的缺陷檢測以及自動分割。該設備還具有高級處理功能,如故障定位、陣列形狀分析和3D測量。所有這些都使系統能夠快速準確地檢測和識別缺陷。KLA/TENCOR EDR 5210具有較高的數據吞吐量,非常適合自動缺陷審查（DPReview）應用程序。它具有高達200張/小時的快速吞吐量速度，這使得它非常適合生產線檢查。該設備還能夠標記檢測到的缺陷,以便於審查和分類。TENCOR eDR-5210可靠，操作簡單，物有所值。它需要最低限度的維護,非常方便用戶,並且高度可配置以滿足特定的客戶要求。因此，對於需要可靠缺陷檢測系統進行生產的半導體制造商來說，這臺機器是一個很好的選擇。