二手 KLA / TENCOR eDR-5210S #9390422 待售

KLA/TENCOR eDR-5210S是一種前沿掩模和晶圓檢測設備。KLA eDR-5210S設計用於掩模和晶片制造,為檢測缺陷提供了全面的解決方案。TENCOR eDR-5210S采用最先進的圖像技術來檢測各種光掩模和晶片上的細微復雜缺陷。EDR-5210S包括一個高分辨率、高清晰度的黑白CCD攝像機,以及一個遠心光學系統,可提供超過400微米的光圈。自定義圖像處理算法與功能強大的嵌入式計算機相結合,可實現圖像的超高速處理。KLA/TENCOR的圖像處理功能還eDR-5210S使它能夠識別復雜的模式,如橋接、臨界尺寸（CD）錯誤、模式移位和錯位等。KLA eDR-5210S的設計采用開放式體系結構,可靈活地集成到任何現有或計劃的測試平臺中。該單元與25mm和30mm的口罩都完全兼容，晶圓與各種基材完全兼容。TENCOR eDR-5210S還具有與第三方軟件和硬件接口的能力。該機采用了最先進的微侵蝕技術，能夠以2微米的分辨率檢測微小缺陷。除了缺陷檢測外,eDR-5210S還提供全面的晶圓質量評估,測量均勻性、表面粗糙度、線寬和圖樣完整性。該工具的高級編程功能包括具有直觀菜單結構的圖形用戶界面（GUI），用於創建和修改檢查腳本，以及旨在快速勾勒出潛在缺陷的菜單。資產還具有存儲圖像數據以備將來使用的能力。KLA/TENCOR eDR-5210S還支持廣泛的測試協議,包括掩碼蝕刻、X射線成像和表面掃描。KLA eDR-5210S是口罩制造和晶圓檢測的理想選擇，提供了市場上最精密、用途最廣泛的檢測模型。TENCOR eDR-5210S具有先進的圖像處理能力、高分辨率攝像頭和靈活的編程功能,可確保對掩碼和晶片缺陷的準確可靠檢測。