二手 KLA / TENCOR EFEM #9276743 待售

KLA/TENCOR EFEM是一種用於處理半導體器件制造中使用的感光石英掩模的生產檢驗要求的掩模和晶圓檢驗設備。它利用明場、暗場、數字路徑差分（DPD）成像等專有的先進檢測技術，識別掩模和晶圓上的顆粒和異物等缺陷，允許精確測量兩者之間的細微差異。KLA EFEM系統可配置可見至近紫外線光源和一系列光學接口，如物鏡、放大鏡、針孔和基準標記，使其能夠以精細的分辨率檢查直徑達25厘米的掩模和晶片。它還包括缺陷識別和缺陷標記功能,能夠快速評估和分析缺陷。此外,該單元還包括一個靈活的軟件包,可用於執行各種任務,如選擇最佳檢測亮度、自動聚焦和顯示缺陷圖像。TENCOR EFEM機器的設計能夠降低成本,同時提供高精度。其檢查能力通過運用多種技術進一步增強，結合高速光譜儀捕獲每一個單獨缺陷的大小、形狀和位置信息。此外,它還可以配置一個自動化工具,該工具能夠進一步處理缺陷數據,以分離錯誤和實際缺陷,從而實現最有效的生產數據流。EFEM提供模具對模具的檢查功能、通用且用戶友好的資產以及先進的圖像處理功能,這些功能可自動分析缺陷,直至獲得最精細的細節。它能夠對單晶片和雙面晶片進行檢查，並且可以配置範圍廣泛的特殊校準和校準場大小。該模型還能夠與其他制造設備（如蝕刻和計量系統）集成,從而實現自動比較和缺陷識別。總體而言,KLA/TENCOR EFEM是一種先進的掩模和晶圓檢測設備,旨在以最低的成本和工作量提供高精度結果。它能夠檢查直徑不超過25厘米的各種石英掩模和晶片,並提供一系列內置的自動化功能,以快速分析缺陷。