二手 KLA / TENCOR EFEM #9276751 待售

KLA/TENCOR EFEM （Edge and Film Emission Metrology設備）是一種先進的掩模和晶圓檢測解決方案，旨在精確檢測半導體過程中的缺陷。系統使用高級高分辨率成像技術來創建設備蝕刻表面的輪廓,並測量生成的薄膜堆棧的組成。這提供了晶片上傳輸的光掩模特征和感光材料及特征的模內變化的高精度和粒度測量。KLA EFEM單元將自動化機器的效率與操作人員的精確度結合在一起。它設計用於檢測小至20 nm的微缺陷,通常檢測率為98%。該工具可用於差異化和非差異化配置。差異化配置允許運算符快速識別模內變化，而無差異化配置允許更準確地表征整個晶片表面的大尺度特征。資產由提供全面過程控制的硬件、軟件和附件組成。它包括全局邊緣發射（GEM）反射法和薄膜發射（FEM）反射法，兩者均采用先進的成像和分析。該模型還包括低kV成像；模式接口（PI）；多光譜成像（MSI）；邊緣/薄膜計量（EDFEM）；模式導體計量（PCM）；參數控制（PA）；所有這些都為準確測量基板的物理特性提供了全面的解決方案。除了目測外，TENCOR EFEM設備還可以提供廣泛的過程控制功能。它包括一組支持過程控制設置的嵌入式傳感器,允許高精度識別過程均勻性（PU）中的非均勻性以及其他過程變化。系統還提供了完整的模式匹配功能，使用戶能夠通過調整模式匹配參數來識別和利用非均勻性。EFEM專為可擴展性而設計,無論制造商的規模和復雜性如何,都可以適應制造商的需求。它的通用設計實現了高度的定制,並提供了全面的過程控制,從而大大降低了與掩模制造相關的成本。憑借其先進的成像功能和工藝控制功能,該設備是任何半導體制造商的重要合作夥伴。