二手 KLA / TENCOR es20 #9145312 待售
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ID: 9145312
晶圓大小: 8"
E-beam defect inspection system, 8"
Detection of yield-limiting defect types
Sub- 0.18-micron technologies and copper interconnect processes
Detects sub-design rule particles and patterning defects
Detects defects in very high aspect ratio structures
Detects electrical defects such as voids.
KLA/TENCOR es 20是為滿足半導體行業的嚴格要求而建造的掩模和晶圓檢測系統。KLA es 20結合了高級成像、自動化缺陷檢測、自動化審查和廣泛的工程專業知識,提供了卓越的效果。TENCOR es 20的成像元件在一次掃描中提供了siles的高分辨率圖像,減少了掃描時間和樣本體積。圖像是用5百萬像素的VARMITouch數碼相機和先進的光學元件拍攝的,包括一組4個光源和一個精密的氙氣閃光燈。這樣可以確保準確檢測、測量和分析siles。es 20的自動缺陷檢測組件采用先進的AOI和SEM算法.校準數據允許系統自動檢測廣泛的缺陷,包括顆粒、點缺陷、線缺陷和分形缺陷。KLA/TENCOR es 20還具有檢測低對比度模式的能力,如發現蝕刻成1-2 μ m層厚度的模式。KLA es 20的自動審查組件利用了成像和缺陷檢測技術檢索到的缺陷數據。TENCOR es 20的AI驅動的圖像處理和上下文敏感缺陷分類器集成確保了對芯片和模具的準確自動審查。這減少了人工審核所花費的時間,因此可以更快、更高效地處理樣本。es20的工程團隊致力於為客戶提供全面的支持。他們的專業知識超出了加速晶圓檢測的算法範圍-團隊還提供針對客戶網絡和技術節點優化的指導,以及量身定制的知識培訓,以確保KLA/TENCOR es 20的最大效果。KLA es 20是一種先進的掩模和晶片檢測系統,為客戶提供了晶片檢測的最高精度。其5百萬像素數碼相機、光源、AOI和SEM算法、自動化審查、工程專業知識和全面支持,確保了結果的優化和可重復。
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