二手 KLA / TENCOR es20xp #293592548 待售
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KLA/TENCOR es20xp是一種高性能的Mask和Wafer檢測設備,專為滿足當今光學光刻行業嚴格的Mask和Wafer缺陷檢測要求而設計。KLA ES20 XP提供了高效、經濟高效、準確的缺陷審查,同時加快了晶圓制造過程並縮短了上市時間。TENCOR ES 20 XP利用獨特的三軸掃描系統，準確檢測和分析可能導致設備缺陷或屈服的微觀缺陷。TENCOR es20xp使用專利的GENII Imaging Unit對掩模或晶圓進行亮場和暗場成像。這種成像機器允許更高的分辨率和提高靈敏度缺陷檢測。ES20 XP還提供了許多高級功能,包括可變狹縫大小、可變視場、可變焦點以及最完整的掩碼和晶圓缺陷檢查的可變對比度。KLA es20xp利用獲得專利的自動缺陷分類工具來識別和分類缺陷。缺陷根據大小、形狀、位置、方向和組成進行分類。此外，es20xp還可以檢測過程橋接、線路橋接和打開缺陷，以便提供設備或晶圓缺陷的最全面視圖。ES 20 XP的高吞吐量與其他系統不同,掃描速率高達每秒200條掃描線。此外,KLA/TENCOR ES20 XP非常可靠和準確,在測量掩模或晶片上的臨界缺陷尺寸時可重復測量精度高達1.5微米。除了驚人的檢查能力外,KLA/TENCOR ES 20 XP還提供了一個用戶友好且易於使用的人機界面（HMI）,可完全控制TENCOR ES20 XP操作。用戶友好的HMI使用戶能夠快速輕松地設置資產、查看數據和報告結果。內置的統計分析和報告功能便於對數據進行審查和分析。KLA ES 20 XP為掩模、晶圓檢測和缺陷審查提供了先進的生產力解決方案。高質量、高精度加上檢驗模型的可靠性,提高了產量,減少了工藝停機時間,從而加快了設備制造商的上市時間。
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