二手 KLA / TENCOR eS31 #293606035 待售
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KLA/TENCOR eS31是一種用於生產半導體器件的掩模和晶圓檢測設備。它提供晶片級缺陷檢查和整個晶片設備特性的監控。KLA eS31具有2D和3D成像功能,可檢測晶圓表面的微觀結構、光刻誤差、工藝步驟、缺陷和顆粒汙染。TENCOR eS31設計用於執行快速、準確的缺陷檢測,每小時高達600晶圓的高吞吐量。它將KLA TrueFourier TM 3D成像技術與優化的源目標配置相結合,以捕獲可以跨越多個掩碼和晶片層的設備缺陷。這使得系統能夠準確檢測任何缺陷,即使它們發生在不同的層上。設備的高靈敏度允許它檢測子段和段缺陷,以及啟用邊到邊缺陷搜索。機器使用的算法可以檢測掩碼和晶片缺陷,收集到的數據可用於提供陣列前和圖案後缺陷反饋,從而提高工藝性能。該工具還具有獨特的晶圓映射技術,可以在整個晶圓上識別和分析單個晶圓。這提供了改進的缺陷覆蓋範圍和不同晶片之間的相關性,使操作員更容易識別問題區域。ES31還具有自動晶片處理資產,可一次處理多達四個晶片。該模型還包括一個現場測量平臺,該平臺提供實時數據和分析,以便及時進行流程優化和故障排除。KLA/TENCOR eS31是一種用於掩模和晶片檢測的一站式解決方案,提供快速、準確、全面的缺陷檢測。它的自動化晶片處理功能使其能夠快速檢查大批量晶片,並且其全面的數據分析功能能夠進行詳細的缺陷分析和報告。KLA eS31集成了一系列高級成像和數據收集功能,可提供可靠、準確的缺陷檢測、高效的設備操作以及改進的過程和產品性能。
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