二手 KLA / TENCOR eS31 #293609359 待售

KLA/TENCOR eS31是一種高度先進的設備,用於掩模和晶片檢查,可提供5nm或更高分辨率。它對半導體晶片的感光特性進行非接觸、無損檢測，以提高產量和控制產量。該系統采用稱為「散射測量」的獨特技術運行。利用這種技術，從樣品表面散射入射光，然後分析檢測到的反向散射光。KLA eS31利用激光散射測量剖面（LSP）提供各種表面的地形測量。該單元甚至能夠檢測最小的特征,如線緣粗糙度、接觸孔和拐角半徑。其獨特的技術還允許確定3 D晶圓水平映射和薄膜厚度測量。TENCOR eS31機能夠分析多種材料，如光致抗蝕劑、二氧化矽、氮化矽以及微電子行業常用的其他材料。該工具具有超快的檢測時間,非常適合需要快速周轉的應用程序。此外,該資產是自動化的,允許用戶快速設置和獲取數據。機器的軟件提供了一個集成的掃描模式，它允許用戶同時分析不同大小的多個晶片以及一個自動特征檢測算法，該算法存儲和跟蹤特征尺寸測量，供將來參考。此外,該模型還包括一套流程控制功能,允許用戶自定義測量設置、查看和分析統計數據等。ES31提供了廣泛的附件和系統,例如光源模塊、計量階段、熱成像模塊、AuroClean模塊、NuFlats設備、SQA模塊以及各種介質和過濾器類型。這些附件和系統使KLA/TENCOR eS31能夠根據特定的客戶要求進行定制,從而確保用戶始終獲得最高效、最可靠的結果。總體而言，KLA eS31是一個極其先進的系統，專門設計用於便利和改進掩模和晶片檢查。它提供5nm或更高分辨率的非接觸式、無破壞性檢查，能夠掃描和分析各種材料。憑借其自動化的單元、集成的掃描模式和可定制的測量設置，TENCOR eS31機是半導體制造商的理想選擇。