二手 KLA / TENCOR eS31 #9269700 待售
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KLA/TENCOR eS31是一種下一代的掩模和晶圓檢測設備，設計用於大容量半導體生產過程。它具有先進的成像技術和軟件，能夠對掩模和晶片進行快速、準確和可靠的檢查。KLA eS31系統基於自動掃描電子顯微鏡（SEM），配有集成光學顯微鏡進行光學檢查。與前幾代產品相比,它提供了更高的吞吐量和更好的圖像質量。此外,它還提供快速吞吐量,目標速度為0.75標本/分鐘。TENCOR eS31單元的圖像傳感器采用了專利的「電子脈沖成像」技術，以獲取比傳統SEM系統高8倍的信號強度。這樣就能夠以納米分辨率對蒙版和晶片上的圖樣進行極高精度的分析。它旨在檢測開路和短路，識別結構中的接觸缺陷和其他像差。ES31臺機器還具有強大的軟件，能夠識別半導體生產過程中使用的模式。例如,它可以在水平和垂直方向檢測長線/短線,並且還具有邊緣檢測和缺陷檢測算法,以高精度識別任何錯誤。由於其先進的算法，KLA/TENCOR eS31工具可以自動識別模式，減少了對操作員幹預的需求。該資產還提供了一系列專門的接口，以連接到測試儀器，如AFM和RHEED。這樣就可以詳細分析層和層的相關性,從而使用戶能夠獲得前所未有的準確性。此外,它的多語言支持（中文、英文、韓文、日文、德文和法文）使廣泛的客戶可以訪問它。KLA eS31模型是各種半導體工藝的理想選擇。它提供了一個具有成本效益的選項，以達到掩模和晶圓檢驗的最高精度標準。高度精確可靠的TENCOR eS31設備將徹底改變半導體生產過程,從而實現更快的吞吐量和更好的圖像質量。
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