二手 KLA / TENCOR eS32 #9255738 待售

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ID: 9255738
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Defect inspection system, 12" With hybrid port control Load ports, 8"-12" Wafer handler: SMIF, 8" FOUP, 12" With insert, 8" Open cassette, 8"-12" Standard pixel size: 0.025, 0.035, 0.05, 0.07, 0.10, 0.15, 0.20, and 0.30 pm Inspection modes: Array mode (Cell-to-cell) Random mode (Die-to-die) Master reference inspection (Die-to-any die) User Interface Inspection station Dual EFEM Power line conditioner EBARA ESR80WN Dry pump Electrical distribution box 2007 vintage.
KLA/TENCOR eS32是一種先進的、經濟高效的掩模和晶片檢測設備,能夠檢測生產線上使用的各種掩模和晶片的顆粒和缺陷檢測。該系統利用高分辨率光學成像,生成晶圓生產中使用的納米和微型元件的清晰圖像。其獨特的側壁成像能力也提高了檢測結果的準確性和速度,如角度缺陷檢測。獲得專利的Dark Field Bright Field和OmniBeamTM技術進一步拓寬了KLA eS 32的規格,以檢測微粒到0.2 µm。該單元具有檢測晶片表面顆粒的能力,包括抗渣、金屬化、霧霾、電子束抗劃痕等。其特殊的暗場明場成像結合了角度相關和角度無關的檢查,與傳統的暗場檢查相比產生更精確的結果。這使機器能夠檢測到電線斷裂或其它角度的缺陷,否則這些缺陷將是不可見的。獲得專利的OmniBeamTM和斜角光技術提高了光照強度,進一步提高了檢查結果。由於其用戶友好的界面和直觀的軟件,該工具非常容易設置和操作。軟件利用預定義的工作流和參數自動檢測、分析和分類缺陷,並允許進一步分析和比較。該資產具有存儲和比較各種檢驗結果的能力,能夠快速輕松地分析完整的生產線而不會造成任何麻煩。TENCOR ES 32掩模和晶圓檢測模型具有在納秒內進行全局缺陷搜索的能力,是一種快速可靠的解決方案,可以捕獲所有最小缺陷。它的自動化功能允許快速和準確的檢查,從而節省成本並實現高效的生產周期。此外,其用戶友好的界面和直觀的軟件界面提供了方便的設置和操作,使設備非常適合快速,精確和成本節約的生產線。
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