二手 KLA / TENCOR eS32 #9308154 待售

KLA/TENCOR eS32是為半導體工業設計的掩模和晶圓檢測設備。該系統具有高通量、6西格瑪產量、重復性和可靠性。它提供光掩模和晶片的自動光學檢查，具有高分辨率和大視場。它有助於改進過程控制,同時保持高精度。KLA eS32單元包含各種各樣的檢查技術和軟件，包括先進的光學、反射成像、光譜學、衍射、X射線成像和計量。該機器能夠檢查0.2-500 μ米範圍內的圖樣，最小分辨率為0.1 μ米，可對小型復雜結構進行高分辨率成像。該工具還配備了超精確的運動力學，使其能夠在各種各樣的面具和晶片上快速準確地成像。該資產還具有專門用於光掩碼和晶圓模式識別的軟件。該軟件旨在檢測顆粒缺失、沈積不正確和打印不完美等缺陷。該模型能夠自動區分各種遮罩層的圖樣，從而能夠以高度的精度檢測薄特征。此外，TENCOR ES 32設備能夠可視化3D中的缺陷，允許對光掩模和晶片進行詳細的檢查和診斷。該系統還配備了多項其他先進功能，如自動焦點檢測、低對比度原子檢測、間距漂移監控和自動對焦堆棧檢測。ES 32單元設計為滿足高質量要求並提供可靠的結果。它是先進的半導體制造的理想選擇,在這種情況下,高產率和低成本是必要的.該機器還設計為易於使用，具有圖形用戶界面、基於Web的遠程支持以及一套高級編程和分析工具。總而言之，KLA ES 32 Mask和Wafer Inspection Tool是先進檢測技術和用戶友好界面的完美結合，為先進半導體制造提供了理想的解決方案。