二手 KLA / TENCOR eS32 #9354570 待售

KLA/TENCOR eS32是一種掩模和晶片檢驗設備，利用先進的光學檢驗和計量技術檢測半導體制造過程中使用的晶片和薄膜掩模上的缺陷。其光束特性為最大分辨率和精度量身定制，高速采集電子設備可實現對象的快速成像。KLA eS32能夠檢測k1/k2級的缺陷，並能暴露出高密度的掩模模式缺陷。它還可以測量遮罩特征尺寸、層厚度和相交角度。利用掃描電子顯微鏡可以對晶圓和薄膜掩模特性進行高分辨率成像，從而便於識別。其先進的系統體系結構旨在提供持續的檢查，並在廣泛的晶圓和薄膜掩模直徑範圍內提供高吞吐量。KLA專有的電源控制器旨在提供高度一致的蒸發速率。這使得即使是最具挑戰性的應用程序也能獲得可重復的結果。TENCOR ES 32還為X射線檢查提供高能和低能選項。它的高能單元選項是由兩個微焦點X射線源啟用的，它提供了晶圓存在和掩模層特征之間的良好對比。配備1.2mV X射線源的低能耗機器選項檢查晶圓圖樣特征中的微妙缺陷。該工具的快速、簡單的控制界面使操作員能夠根據特定的生產要求自定義處理參數。為了進一步改進過程控制，eS32的過程匹配軟件優化了檢查過程的每個階段的參數。這使得對面膜層的精確和完整的檢查具有很高的準確性。TENCOR eS32的最佳校準系統旨在提供完整的計量數據，從而提高速度和精度。直觀的控制界面允許高效的操作和全面的數據收集,以便快速進行分析和報告。總體而言，KLA/TENCOR ES 32是一種高度先進和可靠的掩模和晶圓檢測資產，提供無與倫比的準確性和細節。它具有高分辨率的光學和計量功能,可以精確識別晶片和薄膜面膜上的缺陷,加快工藝速度並確保產品質量的高水平。