二手 KLA / TENCOR eS32 #9386158 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
KLA/TENCOR eS32掩模和晶片檢測設備設計用於半導體掩模和晶片圖樣的特定測量。它采用開放式體系結構,能夠集成高級技術解決方案和FOUP機器人界面,以實現高級檢查和測量功能。該系統提供了一個交互式的用戶界面，允許快速和容易晶圓模式檢查。KLA eS32單元使用模對數據庫軟件機器，允許用戶快速準確地識別缺陷。該刀具具有多個晶片級,可自動測量和調整模具放置精度.模對數據庫資產為每個模具啟用了一個DieID,並能夠精確測量模具對模具的精度差異。TENCOR ES 32掩模和晶圓檢驗模型有幾種先進的技術來實現精確和可重復的測量。這些技術包括雙面高分辨率模式識別（DSPR）、MyVuTM樣本調整和樣本對齊。DSPR技術執行極其精確的形狀識別過程，在不改變焦點位置的情況下識別掩模或晶圓兩側的缺陷。這增加了檢測諸如位錯和縫合錯誤等小缺陷的能力。MyVuTM On-Sample Adjustment是一項技術,它使設備能夠根據晶圓上的實際模具形狀自動調整焦點位置,從而進行更精確的檢查。ES 32的樣本對齊技術能夠準確映射整個樣本表面，以防止因位移而產生誤差。先進的技術還對模具的頂部和底部表面進行了映射,以實現更精確的缺陷檢測。KLA ES 32系統還配備了最新的FastFlux TM缺陷檢測軟件,該軟件能夠檢測小至0.08微米的缺陷。該單元還可以檢測包括顆粒、丘陵、分層和短褲在內的多種類型的缺陷。最後,TENCOR eS32掩碼和晶片檢測機為用戶提供了一個交互式用戶界面、高級模對數據庫軟件、高級模式識別、MyVuTM樣本調整、樣本對齊和FastFluxTM缺陷檢測軟件。該工具旨在提供精確的識別缺陷的準確性,從而提高半導體器件的產量和成本效益。
還沒有評論