二手 KLA / TENCOR eS35 #9236715 待售

KLA / TENCOR eS35
ID: 9236715
E-Beam inspection system.
KLA/TENCOR eS35是一種先進的掩模和晶片檢測設備,旨在檢測和糾正半導體掩模和晶片上的關鍵缺陷。KLA eS35提供了卓越的靈活性和速度,使其能夠做出快速、準確的決策,而不會帶來產量或精度的風險。這一集成成像解決方案結合了高功率激光源、圖像校正算法和先進缺陷管理軟件,為半導體行業提供了全面的檢測系統。在其核心,TENCOR ES 35由一個大面積、高解析度的空中影像感應器、一個光學單元、一個集成的激光源和一個先進的缺陷修正算法組成。激光源發出強烈的光束,被被檢查的晶片或掩模反射。該光束由高分辨率航空圖像傳感器檢測,並通過光學機器運行。光學工具允許對遮罩或晶片的形狀和表面地形進行極其精確的測量。然後使用缺陷校正算法將圖像數據與參考圖像進行比較,並識別和糾正任何錯誤。TENCOR eS35能夠檢測到低至0.004微米的缺陷,並且可以從給定的掩模或晶片測量多達10個不同的層。這是使用卓越的信噪比和較高的動態範圍來完成的,從而獲得卓越的圖像質量。ES35配備了全自動過程監控資產,可以在早期驗證掩碼或晶片的設計,並監控處理過程中可能發生的任何更改。KLA ES 35也可用於測量面罩或晶片上肉眼看不見的特定特征。它能夠測量小至0.008微米的特征,也能檢測到人眼看不見的缺陷。這包括但不限於可能由汙染、非均勻接觸、接線故障等引起的缺陷。ES 35還為用戶提供了一系列生產力工具,如缺陷跟蹤、晶圓管理和數字缺陷庫。所有這些都在驗證過程中特別有用,確保掩模和晶片通過質量保證和產品完整性標準。總體而言,KLA/TENCOR ES 35是半導體行業質量保證的寶貴工具,是任何制造工藝的絕佳補充。通過結合高功率激光源、高分辨率空中成像和先進的缺陷校正算法,提供了無與倫比的精度和速度的集成成像解決方案。
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