二手 KLA / TENCOR eS37L #9232829 待售

ID: 9232829
Inspection system Main body EFEM IMC Rack UI Power vaccine (2) Power supplies.
KLA/TENCOR eS37L是一種用於檢測半導體制造過程中使用的光刻面膜和晶片的物理缺陷的掩模和晶片檢測設備。它能夠檢測小至45 nm的超小型缺陷。它具有很大的視場,使它能夠同時成像30多個晶圓或掩碼,每秒掃描多達140個掃描場。此外,系統具有很高的適應性,因為它可以重新配置以滿足特定的自定義檢測需求,以滿足不斷變化的流程需求。KLA eS37L單元使用先進的成像技術來識別、分類和檢測口罩和晶片上的缺陷。這是通過眾多光學元件實現的,包括精確透鏡和光源。它還結合了專有的KLA技術,包括專利ARCSharp™孔徑技術和TeleSight™信號處理算法。ARCSharp™技術利用四象限掃描體系結構來提高成像和缺陷檢測性能。然後,機器分析圖像以確定缺陷的形狀和大小,並確定晶圓或掩碼上的位置。TENCOR eS37L工具具有高級軟件,允許自動缺陷分類和審查。它還具有一套全面的報告,能夠對檢查結果進行詳細分析。此外,資產是完全自動化的,並與現有的自動化設備集成在一起,如晶圓分選機、輸送機系統、軌道和跟蹤系統。此集成有助於確保以最高效的方式使用模型。ES37L設備是有效準確檢測半導體制造過程中使用的掩模和晶片缺陷的重要工具。其先進的成像技術、自動化缺陷分類和全面的報告功能使缺陷檢測和分析能夠快速準確,從而能夠檢測微小的物理缺陷。此外,它的軟件集成功能有助於確保系統以高效的方式使用。KLA/TENCOR eS37L裝置是一種可靠、高效的掩模和晶片檢測機.
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