二手 KLA / TENCOR EV300 #293637905 待售

KLA/TENCOR EV300是為半導體晶圓制造行業設計的先進的掩模和晶圓檢測設備。它提供高速、高精度的缺陷檢測，使用戶能夠快速檢測潛在缺陷，如劃痕、顆粒和汙染。該系統采用了激光曝光時間長、高端光學系統、焦點變化等先進技術的組合。其先進的光學和空氣軸承級確保該單元運行無錯誤，而其壽命長的激光器使其能夠進行長期、成本效益高的檢查。KLA EV 300能夠檢測小至測量像素大小的三分之一的缺陷,該像素大小為0.05微米-大約是人體空氣大小的一半。通過利用其專有的檢查算法，機器還能夠檢測到諸如粒子、靜電放電（ESD）損傷、暴露於光線和其他環境元素等缺陷。此外，該工具還能夠檢測由於激光照明不規則而導致的遮罩特征的波動和缺陷。此外,該資產還具有直觀的用戶界面,並且能夠提供針對缺陷的技術。這項技術增強了檢查員快速準確檢查晶片特性的能力。該模型具有較高的吞吐量,可提供快速的缺陷分析和審查.它還配備了晶片點陣和對準系統，檢測晶片制造中的不規則性和缺陷。此外，TENCOR EV-300提供了可選的汙染物監測設備，執行非接觸缺陷分類，以及汙染邊緣檢測和顆粒驗證。這確保了系統能夠區分實際汙染物和正常汙染物。最後,EV300單元具有很高的準確性和可重復性,可提供最低限度的維護和成本節約。機器的所有部件都非常可靠,並有保修作為後盾。為確保取得最佳效果，該工具由一個獨立的測試實驗室進行測試和認證。TENCOR EV 300具有強大的特性和可靠性,是檢測和定位掩碼和晶圓制造缺陷臨界度的理想解決方案。