二手 KLA / TENCOR EV300 #9019927 待售

KLA/TENCOR EV300是一種用於半導體工業的掩模和晶圓檢測設備，專門用於高分辨率掩模和晶圓檢測。該系統結合了KLA晶片檢測技術和TENCOR掩模檢測技術，為客戶提供了全面、高性能的檢測解決方案。KLA EV 300是可用的最快、功能最強大的掩模和晶圓檢測系統之一，因為它集成了硬件和軟件。該裝置的最大掃描速度為17.4 μ米/秒，可進行快速、高效的檢查。它還配備了先進的光學成像機和激光照明檢查頭，使其能夠以無與倫比的精度和靈敏度檢測微觀缺陷。此外,該工具還配備了獲得專利的焦點控制資產,使其能夠以前所未有的精確度掃描更廣泛的材料。TENCOR EV-300模型具有人性化的界面，使用戶能夠快速、輕松地訪問和控制各種檢查功能，如選擇要檢查的圖像缺陷、掃描布局、參數設置、校準模式等。此外,設備能夠同時執行多個掃描,從而獲得更快的結果。該系統具有直觀的用戶界面和擴展功能,可幫助半導體制造商節省時間和金錢,同時實現最高的準確性和性能。EV300還配備了功能強大的圖像分析軟件包,提供易於使用的缺陷識別和分類工具。軟件還支持腳本編寫,允許進行復雜的缺陷分析和自動分類。此外，該設備還具有內置校準功能，使其能夠自動適應不斷變化的環境或基板條件。KLA EV300機提供了速度、精度和靈敏度無與倫比的全面、高性能的掩模和晶圓檢測解決方案。其集成的軟硬件、用戶友好的界面、快速的掃描速度、先進的光學成像工具、激光照明檢查頭以及強大的圖像分析軟件包，使其成為任何半導體制造商的絕佳選擇。