二手 KLA / TENCOR EV300 #9088175 待售
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ID: 9088175
Scanning Electron Microscope (SEM), 6"-12"
Fully automated
Designed specifically for high-volume review and analysis in a manufacturing environment
Integrated automatic defect classification (ADC) capabilities
Flexible tilt/rotation
Voltage contrast review
High aspect ratio interconnect (HARI) imaging
Landing energy up to 19 keV: enables unambiguous material identification
Engineering analysis applications for 0.13 micron and smaller design rules
Unpatterned and patterned wafer inspection system
Klarity Defect automated analysis and defect data management system: analysis, defect control, and excursion monitoring.
KLA/TENCOR EV300是一種用於識別金屬化缺陷的高精度掩模和晶圓檢測設備。它結合了先進的光學技術,包括亮場和暗場成像,以及獲得專利的多角散射成像技術,來檢測和表征關鍵缺陷。KLA EV 300的掃描範圍高達300 mm,可以捕獲各種缺陷類型,包括預金屬和金屬層的光掩模。該系統由一臺廣域高分辨率紅外相機組成,提供了對整個晶片的快速準確的概述,以及幾臺光學探測器,給出了存在缺陷的詳細圖像。它的高掃描分辨率,高達10µm,允許檢測細小顆粒,如蝕刻或氧化物層的顆粒,以及有效區分不同大小和形狀的顆粒。設備的掃描速度可達到5 Hz,可確保快速處理時間。TENCOR EV-300可用於檢查接觸墊的形狀、大小和位置、通孔和線條以及墊的拐角和邊緣的缺陷。它還可用於識別沈積物中過量的氧化、汙染以及劃痕或地形變化。該機器具有多種集成的自動圖像分析功能,大大減少了手動檢查和解釋的需要。TENCOR EV300帶有直觀的用戶界面,易於操作且用戶友好。它與所有主要的晶圓廠流程兼容,允許輕松集成和快速啟動。該工具還支持用於流程前和流程後分析和報告的各種IT工具。通過使用尖端技術,TENCOR EV 300可以幫助制造商快速識別和定位化學標記顆粒,這對於先進光刻的成功至關重要。總而言之,KLA/TENCOR EV 300是一種先進的掩模和晶圓檢測資產,它徹底改變了缺陷分析的執行方式。KLA EV300具有高分辨率、自動化圖像分析功能和用戶友好的界面,是識別金屬化關鍵缺陷的理想選擇。
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