二手 KLA / TENCOR EV300 #9191448 待售
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ID: 9191448
優質的: 2002
Defect review system
Open cassette
With GENMARK single end-effector robot
Cassette type: Dual open cassette, 8"
Camera: High & Low MAG
With EDX in box and line conditioner
With Dry pump console powered box and vac-pump included
2002 vintage.
KLA/TENCOR EV300是一種掩模和晶圓檢測設備，有助於確保先進半導體元件的最高質量。它在測量、驗證和驗證掩模和晶片生產特性時提供了卓越的性能。KLA EV 300的掃描電子顯微鏡（SEM）技術能夠發現和隔離掩模層和晶片層的生產缺陷。其分辨率明顯大於傳統光學成像系統。這使TENCOR EV-300能夠檢查更大的圖案尺寸,並提高測量精度和更快的吞吐量。此外,KLA/TENCOR EV-300專有的FocSEM算法提供了卓越的成像分辨率,使檢測傳統REI系統未發現的缺陷變得更加容易。KLA EV300單元還允許同時檢查掩模和晶片上的各種特征,包括線條、邊緣、通孔、接觸墊和電線。此外,它還有一個內置驗證算法,用於檢查間隔器和每個模具的對齊情況。KLA/TENCOR EV 300機器還包括KLA專有的ScanType布局測量解決方案（STM）,它允許掩模和晶片上每個圖樣的像素級精度。此外,EV-300的Renalogix檢查套件還提供了對關鍵缺陷、產量監控和刀具性能趨勢的徹底檢查/故障分析。TENCOR EV300還包括一系列專門工具。這些專門的軟件包提供了對掩碼和晶圓模式的額外分析。TENCOR缺陷分析解決方案（DAS）模塊提供了一個易於使用的解決方案,用於分析、分類和過濾缺陷數據,並提供有關缺陷及其在掩模和晶片上的大小、形狀、位置和方向的詳細信息。KLA/TENCOR Alignment Certification Suite （ACS）提供了可視化工具來分析對齊錯誤,以及測量初始設計的大小、旋轉和位置偏移的能力。EV 300具有現代過程控制和質量保證所需的先進軟硬件控制系統。它包括控制功能的強大組合,如自動階段校準、晶圓尺寸檢測、晶圓選擇性、模式檢測、向前/反向/反射模式縫合、自動缺陷分析和報告,以及高級檢查算法和軟件。所有這些特性使得TENCOR EV 300成為強大有效的掩模和晶圓檢測資產。EV300既高度自動化又易於使用,因此可以快速集成到現有的生產過程中。由於其高度可配置的功能集,它還可以應對新的流程挑戰。有了這種模式，用戶可以確信自己的產品符合最嚴格的質量標準。
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