二手 KLA / TENCOR EV300 #9267083 待售

KLA/TENCOR EV300是為關鍵光學和計量應用而設計的全自動高清掩模和晶圓檢測設備。KLA EV 300利用先進的激光掃描幹涉測量（LSI）技術,在廣泛的掩模和晶圓技術平臺上提供卓越的缺陷檢測和快速屈服評估。該系統的高吞吐量吞吐量和更高的生產率可以加快周轉速度,降低擁有成本。TENCOR EV-300包括一個專有的基於視覺的單元,可實現高通量的實時成像以及相移和強度成像,用於掩碼和晶圓檢查應用。這臺機器允許檢查大幅面的口罩，包括有機和無機口罩，以及標準的平板顯示器基板，分辨率都大於0.2µm。該工具啟用了相移功能,可用於高達0.1nm的掩模和基板檢查,從而能夠檢測到嚴重缺陷,否則將無法使用傳統的掩模檢查技術進行檢測。KLA EV300還包括一個激光掃描儀，該掃描儀設計用於最佳吞吐量和靈活性，同時進行成像和精確的缺陷檢測。這是通過一項正在申請專利的光束轉向執行器技術實現的，該技術可以改進掃描速率優化和易於校準。激光掃描引擎設計用於檢測口罩和基板上的微缺陷，而專用的波前幹涉儀則提供相移功能以進行更精確的檢查。KLA/TENCOR EV-300還包括一套集成的軟件工具,以增強過程控制和提高生產率。該軟件包括一個直觀的圖形用戶界面（GUI），它簡化了檢查和分析復雜的多層掩碼的任務。此外,自定義用戶界面的功能允許獨特的用戶體驗和自動工作流。此外，軟件還包括過程表征和分析功能，如數據分析、缺陷識別、表征和測試優化。總體而言,KLA/TENCOR EV 300是一種先進的全自動掩碼和晶圓檢查資產,專為關鍵光學和計量應用而設計。其高通量成像能力、激光掃描和專用波前幹涉測量相結合，有助於促進缺陷檢測和屈服評估，從而降低擁有成本，改善工藝控制。具備檢測有機和無機口罩、標準平板顯示器基板和微缺陷的能力,EV-300最大限度地提高了廣泛應用的效率。