二手 KLA / TENCOR FLX 5200H #9148307 待售

KLA/TENCOR FLX 5200H是一種用於高通量亞納米臨界尺寸（CD）測量的自動掩模和晶圓檢測設備。該系統使用先進的光學成像和計量學功能,為50 nm以下的特征級別提供無與倫比的分辨率和準確性。該裝置能夠執行廣泛的模式和過程檢查任務，從小型掩模特征到大型光刻結構。KLA FLX 5200H采用雙軸檢流計設計,具有大孔徑光學元件和可容納200 mm晶圓的卡盤。機器的光學器件布置在光學臺上，最多可進行6條獨立的檢測路徑，以完成不同的測量任務。光學器件由透鏡、濾鏡和探測器組成的激光FabSuite，用於優化光譜精度和實現高分辨率。全尺寸晶片級可實現精確對準的穩定測量結果。TENCOR FLX 5200H的設計滿足了半導體行業具有挑戰性的模式和工藝檢測要求，具有廣泛的檢測任務和應用。該工具提供了卓越的聚焦深度,可以快速捕獲aCIS圖像,最好的計量方法使用100倍放大倍率來實現最精確的CD測量功能。此外,資產還可以執行廣泛的掩蔽檢查,以幫助識別缺陷並確保最準確的結果。FLX 5200H利用先進的圖像處理和分析算法以及先進的計算機模型。內置配方處理和編碼允許以盡可能最有效的數據管理快速原型設計。該設備使用專門為高速和高容量檢查編寫的軟件運行。KLA/TENCOR FLX 5200H是一種先進的高規格、掩模和晶片檢查系統,旨在提供自動化環境中盡可能最精確的檢查和計量測量。該單元的激光光學、雙軸運動和高分辨率晶片級保證了測量結果的質量，而其靈活的軟件和易於集成到晶片晶片工藝中，使得各種應用實現了歸一化和優化。